一种半桥拓扑电路的制作方法技术资料下载

技术编号:18426755

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本实用新型涉及电子电路技术领域,尤其是涉及一种半桥拓扑电路。背景技术传统MOSFET半桥(参考图1),半桥后级一般为电感或者变压器,与母线之间存在能量交换,MOSFET体内二极管就会有电流流过,此时必须考虑反向恢复时间的带来问题,如此便需要给上下管设置更大的死区时间,当母线为高压时,(常见PFC后400V或交流220V 整流滤波后310V)会导致功率器件选型范围变窄:高压MOSFET的体内寄生二极管反向恢复时间一般为大于300~800ns,半桥死区的时间必须大于寄生二极管的自恢复时间,否则容易发...
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