技术编号:18448967
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及镀膜领域,特别是涉及一种镀膜工艺用的可重复利用靶材装置。背景技术所谓镀膜,就是在固体表面上镀上一层与基体材料不同的薄层材料,从而改变表面的基体性质的技术,ITO导电玻璃镀膜技术,即通过磁控溅射的方法将氧化铟锡靶材,溅射沉积到玻璃表面,从而形成一层透明导电的氧化物薄膜,所谓“溅射”就是用荷能粒子轰击物体,从而引起物理表面原子从母体中逸出的现象,型连续性真空镀膜设备,主要是在真空的环境下连续不断的将靶材溅射沉积到玻璃基板上,靶材从更换到用完,其寿命直接影响了镀膜产品的成本,尤其是ITO...
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