一种镀膜工艺用的可重复利用靶材装置的制作方法

本实用新型涉及镀膜领域，特别是涉及一种镀膜工艺用的可重复利用靶材装置。

背景技术：

所谓镀膜，就是在固体表面上镀上一层与基体材料不同的薄层材料，从而改变表面的基体性质的技术，ITO导电玻璃镀膜技术，即通过磁控溅射的方法将氧化铟锡靶材，溅射沉积到玻璃表面，从而形成一层透明导电的氧化物薄膜，所谓“溅射”就是用荷能粒子轰击物体，从而引起物理表面原子从母体中逸出的现象，型连续性真空镀膜设备，主要是在真空的环境下连续不断的将靶材溅射沉积到玻璃基板上，靶材从更换到用完，其寿命直接影响了镀膜产品的成本，尤其是ITO导电玻璃镀膜行业，因氧化铟锡的价格极其昂贵，溅射用靶材的成本占产品成本的三分之一以上，故提高溅射靶材的利用率一直是镀膜行业技术人员追求的方向，现有的技术存在的主要问题是靶材使用后更换时连带磁铁等材料全部丢弃，造成了极大的浪费，提高了镀膜的成本，对比申请号为 201720757298.X的中国专利，公开了一种镀膜工艺用可重复利用靶材装置，包括冷却管、靶材、磁座，所述冷却管外部设置有所述磁座，所述磁座边缘设置有第一条形磁铁，所述第一条形磁铁旁边设置有第二条形磁铁，所述第一条形磁铁与所述第二条形磁铁之间设置有固定座，所述固定座上设置有吸盘，所述吸盘上设置有所述靶材，该专利虽然提高了靶材的利用率，降低了成本，但是圆形的靶材四周都会被溅射出氧化铟锡造成更大程度的浪费，不利于推广。

技术实现要素：

本实用新型的目的就在于为了解决上述问题而提供一种镀膜工艺用的可重复利用靶材装置，本实用新型靶材利用率高，操作方便，装置简单易于维护维修。

本实用新型通过以下技术方案来实现上述目的：

一种镀膜工艺用的可重复利用靶材装置，包括基座、支腿、第一支板，所述基座下表面四周设置所述支腿，所述基座上表面前方设置滑槽，所述滑槽内设置滑板，所述滑板上表面设置所述第一支板，所述第一支板前侧面设置第一接线柱，所述第一支板后侧面设置第一电场板、加热环，所述加热环内部设置载荷粒子产生板，所述基座上表面后方设置第二支板，所述第二支板后侧面设置电机，所述电机一侧设置控制器，所述控制器的型号为OAI-216，所述控制器远离所述电机的侧面设置控制面板，所述第二支板前侧面设置转轴，所述转轴前侧面设置转辊，所述转辊外侧面设置靶材，所述转辊外侧面前方设置限位环，所述基座靠近所述控制器的侧方设置支撑板，所述支撑板上方设置卡槽，所述卡槽内部设置手柄，所述手柄前侧面设置第二接线柱，所述手柄后侧面设置第二电场板，所述第一接线柱、所述加热环、所述电机、所述控制面板、所述第二接线柱电连接在所述控制器上。

进一步设置：所述支腿焊接在所述基座上，所述滑板滑动连接在所述滑槽上，所述第一支板焊接在所述滑板上，所述第一接线柱螺纹连接在所述第一支板上，所述第一电场板、所述加热环焊接在所述第一支板上，所述载荷粒子产生板镶嵌在所述加热环上，所述第二支板焊接在所述基座上。

如此设置，使所述支腿稳定可靠的连接在所述基座上，使所述滑板连接在所述滑槽上并使所述滑板可以在所述滑槽上滑动，使所述第一支板与所述滑板连接成一个整体。

进一步设置：所述电机螺栓连接在所述第二支板上，所述控制器螺栓连接在所述电机上。

如此设置，使所述电机稳定可靠的连接在所述第二支板上并可以取下。

进一步设置：所述控制面板镶嵌在所述控制器上。

如此设置，使所述控制面板与所述控制器连接成一个整体。

进一步设置：所述转辊焊接在所述转轴上，所述靶材键连接在所述转辊上。

如此设置，使所述转辊与所述转轴连接成一个整体。

进一步设置：所述限位环螺纹连接在所述转辊上，所述手柄过盈连接在所述卡槽上。

如此设置，使所述限位环连接在所述转辊上并可在螺纹的作用下在所述转辊上移动。

进一步设置：所述第二接线柱螺纹连接在所述手柄上，所述第二电场板焊接在所述手柄上。

如此设置，使所述第二接线柱稳定可靠的连接在所述手柄上并可以从所述手柄上取下所述第二接线柱。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果如下：

1、采用电场加速冲击粒子，靶材利用率高；

2、可手动改变电场方向，操作方便；

3、装置简单易于维护维修。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型所述一种镀膜工艺用的可重复利用靶材装置的结构示意图；

图2是本实用新型所述一种镀膜工艺用的可重复利用靶材装置的右视剖视图；

图3是本实用新型所述一种镀膜工艺用的可重复利用靶材装置的俯视图；

图4是本实用新型所述一种镀膜工艺用的可重复利用靶材装置的电路结构流程框图。

附图标记说明如下：

1、基座；2、支腿；3、第一支板；4、滑板；5、滑槽；6、第一接线柱；7、第一电场板；8、加热环；9、载荷粒子产生板；10、第二支板；11、电机；12、转轴；13、控制面板；14、控制器；15、转辊；16、限位环；17、支撑板；18、第二电场板；19、第二接线柱；20、手柄；21、卡槽；22、靶材。

具体实施方式

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以通过具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

下面结合附图对本实用新型作进一步说明：

实施例1

如图1-图4所示，一种镀膜工艺用的可重复利用靶材装置，包括基座1、支腿2、第一支板3，基座1下表面四周设置支腿2，支腿2的作用主要是支撑装置，基座1上表面前方设置滑槽5，滑槽5的作用主要是为滑板4提供滑道，滑槽5内设置滑板4，滑板4上表面设置第一支板3，第一支板3前侧面设置第一接线柱6，第一支板3后侧面设置第一电场板7、加热环8，加热环8的主要是对载荷粒子产生板9进行加热，使载荷粒子溢出，加热环8内部设置载荷粒子产生板9，基座1上表面后方设置第二支板10，第二支板10后侧面设置电机 11，电机11一侧设置控制器14，控制器14的作用主要是对整个装置的动作进行整体控制，控制器14远离电机11的侧面设置控制面板13，第二支板10前侧面设置转轴12，转轴12前侧面设置转辊15，转辊15外侧面设置靶材22，转辊 15外侧面前方设置限位环16，限位环16的作用主要是固定安装靶材22，基座1靠近控制器14的侧方设置支撑板17，支撑板17上方设置卡槽21，卡槽21内部设置手柄20，手柄20的作用主要是方便工作人员拿持，手柄20前侧面设置第二接线柱19，第一接线柱6、第二接线柱19的作用主要是给第一电场板7、第二电场板18接上电流，手柄20后侧面设置第二电场板18，第一电场板7、第二电场板18的作用主要是构成均匀加速电场，第一接线柱6、加热环8、电机11、控制面板13、第二接线柱19电连接在控制器14上。

实施例2

本实施例与实施例1的区别在于：

支腿2焊接在基座1上，滑板4滑动连接在滑槽5上，第一支板3焊接在滑板4上，第一接线柱6螺纹连接在第一支板3上，第一电场板7、加热环8焊接在第一支板3上，载荷粒子产生板9镶嵌在加热环8上，第二支板10焊接在基座1上，使支腿2稳定可靠的连接在基座1上，使滑板4连接在滑槽5上并使滑板4可以在滑槽5上滑动，使第一支板3与滑板4连接成一个整体。

实施例3

本实施例与实施例1的区别在于：

电机11螺栓连接在第二支板10上，控制器14螺栓连接在电机11上，使电机11稳定可靠的连接在第二支板10上并可以取下。

工作原理：工作人员先将载荷粒子产生板9装载在加热环8内，然后从转辊15上旋下限位环16，将靶材22套在转辊15上，然后旋紧限位环16，将靶材22固定在转辊15上，将基座1在滑槽5上滑动，带动第一电场板7、加热环 8、载荷粒子产生板9插入转辊15内，把待镀膜件放置在第一电场板7与第二电场板18之间，在控制面板13上设定好以后打开装置，控制器14先根据指令启动电机11，电机11带动转轴12转动，转轴12带动转辊15转动，转辊15带动靶材22转动，同时控制器14控制加热环8给载荷粒子产生板9加热，自由载荷子溢出载荷粒子产生板9表面，控制器14接通第一接线柱6与第二接线柱 19，在第一电场板7与第二电场板18之间加上电场，自由载荷子在电场的加速作用下，加速到很高的速度，冲击击打靶材22，将靶材22溅射冲击到待镀膜件上，完成镀膜。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。