1.一种镀膜工艺用的可重复利用靶材装置，其特征在于：包括基座、支腿、第一支板，所述基座下表面四周设置所述支腿，所述基座上表面前方设置滑槽，所述滑槽内设置滑板，所述滑板上表面设置所述第一支板，所述第一支板前侧面设置第一接线柱，所述第一支板后侧面设置第一电场板、加热环，所述加热环内部设置载荷粒子产生板，所述基座上表面后方设置第二支板，所述第二支板后侧面设置电机，所述电机一侧设置控制器，所述控制器远离所述电机的侧面设置控制面板，所述第二支板前侧面设置转轴，所述转轴前侧面设置转辊，所述转辊外侧面设置靶材，所述转辊外侧面前方设置限位环，所述基座靠近所述控制器的侧方设置支撑板，所述支撑板上方设置卡槽，所述卡槽内部设置手柄，所述手柄前侧面设置第二接线柱，所述手柄后侧面设置第二电场板，所述第一接线柱、所述加热环、所述电机、所述控制面板、所述第二接线柱电连接在所述控制器上。
2.根据权利要求1所述的一种镀膜工艺用的可重复利用靶材装置，其特征在于：所述支腿焊接在所述基座上，所述滑板滑动连接在所述滑槽上，所述第一支板焊接在所述滑板上，所述第一接线柱螺纹连接在所述第一支板上，所述第一电场板、所述加热环焊接在所述第一支板上，所述载荷粒子产生板镶嵌在所述加热环上，所述第二支板焊接在所述基座上。
3.根据权利要求1所述的一种镀膜工艺用的可重复利用靶材装置，其特征在于：所述电机螺栓连接在所述第二支板上，所述控制器螺栓连接在所述电机上。
4.根据权利要求1所述的一种镀膜工艺用的可重复利用靶材装置，其特征在于：所述控制面板镶嵌在所述控制器上。
5.根据权利要求1所述的一种镀膜工艺用的可重复利用靶材装置，其特征在于：所述转辊焊接在所述转轴上，所述靶材键连接在所述转辊上。
6.根据权利要求1所述的一种镀膜工艺用的可重复利用靶材装置，其特征在于：所述限位环螺纹连接在所述转辊上，所述手柄过盈连接在所述卡槽上。
7.根据权利要求1所述的一种镀膜工艺用的可重复利用靶材装置，其特征在于：所述第二接线柱螺纹连接在所述手柄上，所述第二电场板焊接在所述手柄上。