技术编号：18507520
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及半导体工艺，特别涉及一种曝光机。背景技术曝光机，作为半导体制程中重要的生产用机台，主要用于微影制程。一般而言，其与涂布显影机共同使用，完成微影制程中的图像形成步骤。曝光时间对曝光效果的影响非常大，现有的曝光机，当系统出现故障造成曝光时间不准确时，不能及时预警。实用新型内容针对相关技术中的上述技术问题，本实用新型提出一种曝光机，具有加工效率高，生产更加安全的优点。为实现上述技术目的，本实用新型的技术方案是这样实现的：一种曝光机，包括箱体，所述箱体内部形成空腔，所述空腔上部设有滑轨，所...
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