一种曝光机的制作方法

本实用新型涉及半导体工艺，特别涉及一种曝光机。

背景技术：

曝光机，作为半导体制程中重要的生产用机台，主要用于微影制程。一般而言，其与涂布显影机共同使用，完成微影制程中的图像形成步骤。

曝光时间对曝光效果的影响非常大，现有的曝光机，当系统出现故障造成曝光时间不准确时，不能及时预警。

技术实现要素：

针对相关技术中的上述技术问题，本实用新型提出一种曝光机，具有加工效率高，生产更加安全的优点。

为实现上述技术目的，本实用新型的技术方案是这样实现的：

一种曝光机，包括箱体，所述箱体内部形成空腔，所述空腔上部设有滑轨，所述滑轨上活动连接有若干个曝光灯，所述空腔下部设有晶舟，所述空腔内壁还设有光敏传感器，所述箱体正面设有开关门，所述开关门上设有控制面板，所述箱体外侧还固定有数字时钟和控制器，所述数字时钟以及光敏传感器均与所述控制器连接。

进一步的，所述箱体下部设有支架。

进一步的，所述曝光灯的数量为两个。

进一步的，所述数字时钟和控制器设置在一体成型的亚当盒中，所述亚当盒固定在所述箱体上。

进一步的，所述曝光灯与所述控制面板电连接。

本实用新型的有益效果：通过设置滑轨和多个曝光灯可自由调节曝光灯的位置以达到更好的曝光效果，通过设置独立的数字时钟记录曝光的时间，当曝光系统出现故障时能够进行及时的预警。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是根据本实用新型实施例所述的一种曝光机结构示意图；

图中：1、箱体；2、支架；3、曝光灯；4、控制面板；5、晶舟；6、光敏传感器；7、亚当盒；8、滑轨。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

如图1所示，根据本实用新型实施例的一种曝光机，包括箱体1，所述箱体1内部形成空腔，所述空腔上部设有滑轨8，所述滑轨8上活动连接有若干个曝光灯3，所述空腔下部设有晶舟5，晶舟5中可容置晶圆，所述空腔内壁还设有光敏传感器6，所述箱体1正面设有开关门，所述开关门上设有控制面板4，所述箱体1外侧还固定有数字时钟和控制器，所述数字时钟以及光敏传感器6均与所述控制器连接。

本实用新型一种实施例中，所述箱体1下部设有支架2，用于支撑箱体1。

本实用新型一种实施例中，所述曝光灯3的数量为两个，当一个曝光灯出现故障时，另一个曝光灯还能继续支持工作，可靠性更好，同时可调节两支曝光灯在滑轨8上的相对位置，实现更好的曝光效果。

本实用新型一种实施例中，所述数字时钟和控制器设置在一体成型的亚当盒7中，所述亚当盒7固定在所述箱体1外壁。

本实用新型一种实施例中，所述曝光灯与所述控制面板电连接，通过控制面板4可以控制曝光灯的开启和关闭，对曝光时间进行定时设置。

本实用新型通过设置滑轨8和多个曝光灯3可自由调节曝光灯的位置以达到更好的曝光效果，通过设置独立的数字时钟记录曝光的时间，当曝光系统出现故障时能够进行及时的预警。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。