技术编号:1885125
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种靶材的制备方法,特别是一种高性能ITiO靶材的制备方法。包括以下步骤(1)将TiO2纳米粉体与In2O3纳米粉体均匀球磨混合得到ITiO粉体,ITiO粉体中TiO2的含量为0.5-5wt%,然后添加ITiO粉体质量1%-5%的粘结剂PVA;(2)将ITiO粉体装入模具中在40-80MPa下压制成型,将第一次成型的素坯,再用200-300MPa进行二次成型,然后以4-8MPa/min进行卸压,至常压后取出成型好的素坯,(3)将素坯放在烧结炉中进...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。