技术编号:19043782
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本公开一般涉及真空镀膜设备技术领域,具体涉及一种新型磁控阴极多段式供气装置。背景技术真空镀膜,是指在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀件的表面上,真空镀膜的主要功能包括赋予被镀件表面高度金属光泽效果和镜面效果,膜层具有出色的阻隔性能,提供优异的电磁屏蔽和导电效果。被镀件表面膜层颜色是否均匀、结合力是否牢固是判断镀膜质量是否优良的重要指标之一,若被镀件表面膜层颜色不均匀或是膜层出现脱落,则被镀件将作为不合格品而被丢弃。真空镀膜工艺中,供气系统连接靶材提供氧气、氩气的混合气体,通过永磁铁轰击...
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