技术编号:19149920
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于微流控领域,特别涉及一种微电极芯片制作工艺。背景技术由于微电极的尺寸可达微米级别,有利于实现检测装置的集成与便携化,且微电极具有电流密度高、响应速度快、信噪比高等常规电极无法达到的电极特性,近年来受到广泛的关注。目前制备微电极的方法很多,有电沉积法、电化学刻蚀法、光刻腐蚀法和内部填充法等。(1)电沉积法电沉积法即为在特定基底上沉积电极材料或包覆层,制备的微电极形态多为圆锥形、球型或半球型,难以制得任意形状的微电极,而且工艺复杂,成本较高。(2)电化学刻蚀法电化学刻蚀法即对放在特定溶液中...
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