技术编号:19178470
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及y2o3陶瓷涂层的制备技术领域,具体为一种冷喷涂制备y2o3陶瓷涂层的改进方法。背景技术在等离子体刻蚀工艺中,具有化学活性的等离子体通常是由cl2或cf4气体放电产生的,它不仅含有电子和离子,还含有大量的活性自由基(如cl*,c12*,f*,cf*等)。这些活性自由基具有腐蚀性,会对刻蚀腔内表面产生强腐蚀作用,给腔室带来污染,影响刻蚀效果,甚至直接导致刻蚀腔失效。20世纪90年代的等离子刻蚀设备,由于功率较小和使用单一等离子体发生源,铝基体层加上al2o3涂层就可以阻挡等离子体对刻蚀腔...
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