技术编号:1967932
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种放电等离子烧结技术(Spark Plasma Sintering)快速制备多 晶Lu2SiO5闪烁光学陶瓷的工艺方法,属稀土掺杂多晶光学陶瓷材料制备。背景技术无机闪烁材料由于对高能射线(X射线、Y射线等)的吸收能力强、探测效率 高以及抗辐射硬度高,已成功应用于现代核医学检测成像系统中。材料体系主要包括 Bi4Ge3O12 (BGO)、PbWO4 (PWO),CsI (Tl)、NaI (Tl) ,BaF2 和 Lu2SiO5 等。1992 年 ...
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