技术编号:19748317
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及硅衬底蚀刻溶液,更加详细地,涉及当蚀刻氮化硅膜时可抑制硅类颗粒的生成的硅衬底蚀刻溶液。背景技术当前,用于蚀刻氮化硅膜和氧化硅膜的方法有多种,其中主要使用的方法为干式蚀刻方法和湿式蚀刻方法。干式蚀刻方法通常是指利用气体的蚀刻方法,具有各向同性优于湿式蚀刻方法的优点,但生产率远低于湿式蚀刻方法且该方法昂贵,因而趋势为广泛使用湿式蚀刻方法。一般而言,众所周知的湿式蚀刻方法是将磷酸用作蚀刻溶液的方法。在此情况下,当仅使用纯磷酸来蚀刻氮化硅膜时,随着器件的微细化,除了氮化硅膜之外,还会蚀刻氧化硅...
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