技术编号:1979087
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。蚀刻设备的反应槽装置的上电极[0001]本实用新型涉及一种电极,特别是涉及一种蚀刻设备的反应槽装置的上电极。技术背景[0002]在电浆蚀刻制程中,上电极位于被蚀刻的玻璃基板上方,必须要有高电浆电阻,为 达到此目的,现有上电极的制造方式,是对上电极表面及上电极用于通入蚀刻气体的气孔 内缘进行阳极处理,使其产生薄薄的一层阳极膜,例如中国台湾申请号第88107375号专利 案。但是因为电浆蚀刻制程中会使用氟(F)、氯(Cl)等活性腐蚀气体,当阳极膜遭受到上述 腐...
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