技术编号:1988846
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于功能材料领域,涉及在功能化的FTO/glass基板表面制备Tb和Cr共掺杂的高剩余极化强度的BiFeO3薄膜的方法。背景技术BiFeO3是少数的单相多铁材料之一,具有扭曲的钙钛矿结构(属于R3c点群),由立方结构沿(111)方向拉伸而形成的一种偏离理想钙钛矿结构的菱形结构,在室温下同时具有铁电有序和反铁磁有序,由于具有较高的铁电相变温度(TC=1103K)和磁相变温度(TN=643K),在磁电传感器,自旋电子器件,存储器等方面有广泛的应用前景而得...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。