技术编号:1991851
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于制造在平板显示器等中作为电极形成的透明导电膜的氧化物烧结体。此外,本发明涉及将该氧化物烧结体作为溅射靶使用所得的透明导电膜及其制造方法。背景技术ITOdndium Tin Oxide)膜由于低电阻率、高透过率、微细加工容易性等的特征比其它透明导电膜优异,所以在以平板显示器用显示电极为首的宽范围的领域中被使用着。 现在,从能以大面积、均勻性与生产性优良地制作ITO膜的角度考虑,产业上的生产步骤中 ITO膜的成膜方法绝大多数采用以ITO烧结体为靶...
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