技术编号:20020083
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及金刚石制造领域,尤其涉及一种低缺陷高透光率金刚石生长方法和系统。背景技术高质量金刚石禁带宽度高、光透谱宽,同时其超高的硬度和热导率,优异的绝缘性,以及能耐酸、耐热、耐辐射等优异的理化学性能,可以应用于精密机械加工、光学窗口、宝石、mems(micro-electro-mechanicalsystem,微机电系统)、芯片等领域。但高质量的天然金刚石储量有限,于是人们开发出多种合成金刚石方法,如高温高压法、热丝化学气相沉积法。其中mpcvd(microwaveplasmachemicalv...
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