技术编号：20200783
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光学元件和光学元件的制造方法。背景技术通常，当在光学元件的表面上形成诸如防反射膜或高反射膜等薄膜时，使用包含诸如tio2、ta2o5、al2o3、sio2或mgf2等无机化合物作为组分的介电材料。例如，在使用有机非线性光学晶体的情况下，通过真空气相沉积在晶体上形成作为如上所述的无机化合物的介电材料膜，以用作防反射膜(例如参见专利文献1至3)。此外，还存在这样的情况：出于隔离光学元件和空气层的目的，在诸如激光束等光入射的端面处形成反射膜(例如参见专利文献4)。现有技术文献专利文献专利文献...
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