技术编号：2426861
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。这一申请要求US临时申请No.60/015,718(1996年4月25日)的利益。本发明一般性涉及提供高透射比和低发射率的多层膜或涂层的，涂敷了该膜或涂层的制品，和更具体地说，涉及由金属和金属氧化物形成的沉积在透明基底上的这样的涂层或膜。高透射比、低发射率的膜或涂层一般包括提供红外反射和低发射率的一种夹在金属氧化物的介电、抗反射膜或层之间以减少可见反射的反射性金属膜或层。这些多层涂层典型地通过阴离子溅射，尤其磁控溅射来生产。Gillery的US No.4,...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。