技术编号：2495910
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种。更具体而言，本发明涉及能够实现精细线宽的。本申请要求了于2010年8月16日向KIPO提交的韩国专利申请第10-2010-0078973号的优先权，其公开的内容以引用的方式全部并入本文。背景技术关于形成图形的方法，存在间接图形形成方法(例如光刻法)和直接图形形成方法(例如其中将图形直接印刷在目标基板上的方法)。可以通过下面的过程实施所述间接图形形成方法。首先，通过在基板上形成的膜上均匀地涂布光刻胶，以及使光刻胶选择性地曝光和显影来形成光刻胶...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。