技术编号:258418
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。专利摘要本发明提供了一种,包括精选种子、用等离子体处理机1.2-1.4A的剂量处理2次,将处理后的种子在阳光下晾晒4-5天,然后用草炭土珍珠岩粘土按821的体积比混合均匀后作为育苗基质,将处理后的种子以行距140-180mm、株距2-3mm的密度、深度15-16mm播种,播种后的基质保持24-28℃、相对湿度75%-80%,播种后10-11天出苗,将出苗后的小苗移至光照充足、基质保持20-30℃、相对湿度50%-60%的条件下培养,当苗高达到20-25cm时,按行距与株距均为30cm移植至大棚土壤中培养,当苗高达到...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。