技术编号：26141559
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及真空镀膜设备清洗技术领域，更体地，涉及一种具有牺牲层的镀腔内壁构件及其制备方法以及清洗方法。背景技术在真空镀膜设备中，镀腔内壁构件在镀膜一段时间后，表面累积的杂质层越来越厚，且杂质层厚度不均匀，由于杂质层与镀腔内壁构件的粘附力较小，且不同时间段沉积的杂质层之间的界面结合强度问题，导致杂质层易脱落，对镀膜产品表面产生污染，从而极大影响镀膜产品的良率，因此，需对镀腔内壁构件进行定期清洗。现有技术中，对镀腔内壁构件进行酸洗，以去除沉积的杂质层，然而，酸洗溶剂也易腐蚀原有的镀腔内壁构件，如何确...
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