技术编号：2681210
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型属于微纳压印复制，尤其是一种制造机床用长光栅尺的压印平台，该压印平台可以提供符合要求的温度及湿度，并具有一定的抗冲击性能。背景技术精密光栅作为高档数控机床的位置检测元件对数控机床的精度有着至关重要的影响。是精密、超精密高档数控机床的关键基础性功能部件。光栅的制造方法主要有刻划机刻划方法、光刻机光刻方法等。刻划机刻划方法制造光栅效率较低，并且对环境要求高，成本高，不能连续生产，且分辨率有限。光刻机光刻方法的分辨率比刻划机刻划方法高，同样存在上述缺点...
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