专利名称：一种光栅尺压印平台的制作方法
技术领域：
本实用新型属于微纳压印复制技术领域，尤其是一种制造机床用长光栅尺的压印平台，该压印平台可以提供符合要求的温度及湿度，并具有一定的抗冲击性能。
背景技术：
精密光栅作为高档数控机床的位置检测元件对数控机床的精度有着至关重要的影响。是精密、超精密高档数控机床的关键基础性功能部件。光栅的制造方法主要有刻划机刻划方法、光刻机光刻方法等。刻划机刻划方法制造光栅效率较低，并且对环境要求高，成本高，不能连续生产，且分辨率有限。光刻机光刻方法的分辨率比刻划机刻划方法高，同样存在上述缺点。具体来讲，目前，国际上多采用照相接触复制方法制作长光栅尺。即将表面涂有光刻胶的工件放在光栅尺曝光机上，再将光栅母版放在工件上进行接触式曝光，然后通过显影、定影、染色、烘干、镀膜和去胶等工序最后复制出长光栅尺。这种制造方法对于环境要求极其苛刻，导致制造成本较高且制造速度较低。作为一种新型的集成电路制造技术，压印光刻技术将传统的模具复型原理应用到微观制造领域，自1995年Stephen Y Chou提出以来，便以其高分辨率、高效率、低成本、环保性好、工艺过程简单和非常大的上升空间引起了各国研究人员和许多公司的广泛关注。压印光刻技术作为典型的微压印复型技术在近些年以来得到了迅猛的发展，并于2005年年底被国际半导体技术蓝图机构规划为下一代16nm节点光刻技术的代表之一。微压印复型技术是一种低温、常气压、适合于大面积基材上生成微纳米级尺度特征结构的压印方法，是制造大面积微纳米结构的并行制造技术。特别是辊压印技术是能将辊压模具表面的功能性微结构连续地、精确地复型在基底上，可满足连续大幅面、高产能、低成本的要求。目前辊压印技术在以大面积为特征的宏电子系统领域已开始展现了崭新的应用潜力，并为机床测量用光栅微结构的制造提供了一种新的思路。辊压印技术可通过对辊压母光栅模具高精度连续回转运动的精确控制，实现超长、高精度、高线数光栅功能性微结构的制造。
实用新型内容本实用新型的目的在于提供一种光栅尺压印平台，该平台与压印机构配合使用，能够实现超长光栅尺的高速、低成本和连续制造。本实用新型的目的是通过以下技术方案来解决的这种光栅尺压印平台，包括具有凹槽形状的基座，在基座的中部固结有辅助基座，在基座的两端分别设置有能够滑动的玻璃门。上述玻璃门由直角玻璃和设置在直角玻璃外沿的玻璃门框组成。设置在基座两端的玻璃门有四扇，四扇玻璃门均为直角形状，玻璃门通过设置在基座和辅助基座上的玻璃门滑槽安装在基座上。上述基座内设置有环境调节器。本实用新型具有以下有益效果本实用新型的光栅尺压印平台适用于机床超长光栅尺辊，该平台与压印机构配合使用，可以克服传统光栅制造中环境条件依赖性高、制造效率低、成本高的缺点，可以实现超长光栅尺的高速、低成本和连续制造。
图I为本实用新型的整体结构示意图；图2为本实用新型的各部件拆解图。 其中01为基座；02为辅助基座；03为直角玻璃；04为玻璃门框；05为环境调节器；06为玻璃门滑槽。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型做进一步详细描述参见图I和图2，本实用新型的光栅尺压印平台包括具有凹槽形状的基座01，在基座01的中部固结有辅助基座02，基座01内设置有环境调节器05，用来调节压印温度、湿度等环境要素。在基座01的两端分别设置有能够滑动的玻璃门，该玻璃门有四扇，四扇玻璃门均为直角形状，玻璃门通过设置在基座01和辅助基座02上的玻璃门滑槽06安装在基座01上。玻璃门由直角玻璃03和设置在直角玻璃03外沿的玻璃门框04组成。
权利要求1.一种光栅尺压印平台，其特征在于，包括具有凹槽形状的基座(01)，在基座(01)的中部固结有辅助基座(02)，在基座(01)的两端分别设置有能够滑动的玻璃门。
2.根据权利要求I所述的光栅尺压印平台，其特征在于，设置在基座(01)两端的玻璃门有四扇，四扇玻璃门均为直角形状，玻璃门通过设置在基座(01)和辅助基座(02)上的玻璃门滑槽(06)安装在基座(01)上。
3.根据权利要求I所述的光栅尺压印平台，其特征在于，所述玻璃门由直角玻璃(03)和设置在直角玻璃(03)外沿的玻璃门框(04)组成。
4.根据权利要求I所述的光栅尺压印平台，其特征在于，所述基座(01)内设置有环境调节器(05)。
专利摘要本实用新型涉及一种光栅尺压印平台，包括具有凹槽形状的基座，在基座的中部固结有辅助基座，在基座的两端分别设置有能够滑动的玻璃门。本实用新型的光栅尺压印平台适用于机床超长光栅尺辊，该平台与压印机构配合使用，可以克服传统光栅制造中环境条件依赖性高、制造效率低、成本高的缺点，可以实现超长光栅尺的高速、低成本和连续制造。
文档编号G03F7/00GK202421719SQ201120560108
公开日2012年9月5日 申请日期2011年12月28日 优先权日2011年12月28日
发明者丁玉成, 于皓瑜, 刘红忠, 卢秉恒, 史永胜, 尹磊, 蒋维涛 申请人:西安交通大学