技术编号：2684335
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种例如对半导体晶片或液晶显示器用的玻璃基板等基板涂敷抗蚀剂并使曝光后的基板显影的涂敷、显影装置。背景技术 通常，使用将曝光装置连接在进行抗蚀剂液的涂敷和显影的涂敷、显影装置的系统来进行在半导体晶片(以下称为晶片)等的基板上得到抗蚀剂图形的一系列处理。作为如上所述的那种涂敷、显影装置，例如在专利文献1中公开了具有如下结构的涂敷、显影装置上下配置有容纳曝光处理前对晶片实施涂敷处理的组件的涂敷膜形成用模块(block)和容纳曝光处理后对晶片实施显影处...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。