技术编号：2686118
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明与一种根据实际曝光结果来改善光学邻近模拟的方法有关，以在光掩模上输出正确的图形。更特定来说，本发明是关于ー种根据实际曝光结果来改善光学邻近模拟的方法，其通过收集误差值小于ー预定值的调整后模拟參数，以在光掩模上输出正确的图形。背景技术在建构光学邻近效应修正(optical proximity correction, 0PC)模型时，晶圆上线宽量测数据的质量是其最重要的指标之一。现今的线宽量测中广泛地采用fittinglogic法及maximal alg...
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