专利名称：从曝光结果改进光学邻近模拟的方法
技术领域：
本发明与一种根据实际曝光结果来改善光学邻近模拟的方法有关，以在光掩模上输出正确的图形。更特定来说，本发明是关于ー种根据实际曝光结果来改善光学邻近模拟的方法，其通过收集误差值小于ー预定值的调整后模拟參数，以在光掩模上输出正确的图形。
背景技术：
在建构光学邻近效应修正(optical proximity correction, 0PC)模型时，晶圆上线宽量测数据的质量是其最重要的指标之一。现今的线宽量测中广泛地采用fittinglogic法及maximal algorithm法来进行。然,现有用以建构OPC模型的OPC数据收集作法中仍有ー些问题存在。一般而言，建构ー个好的OPC模型其所需要的OPC数据是越多越好，但是这也代表会需要花费许多时间来满足此需求。其它的问题尚有难以厘清线宽量测的变量、SEM线宽量测机台仅能提供宽度与长度的信息、以及无法显示角落信息等。目前，业界已有人提出了优化SEM线宽量测机台的量测參数的方法，其可通过数个取样点的数据来尽量降低量测变量的影响，以获得较佳质量结果或是改变其平均值。
发明内容
本发明提出了一种根据曝光结果来改进光学邻近模拟的方法，以在光掩模上输出正确的图形。首先，判定一曝光结果的曝光信息中的多个曝光数据。提供一对应所述曝光结果且根据多个原始模拟參数产生的原始模拟結果。之后，检验从原始模拟结果获得的原始误差值与从曝光结果获得的原始误差值以确认其是否位于ー预定范围内。如果没有，所述原始模拟參数会受到调整，以获得调整后的模拟參数以及ー调整后模拟結果。从所述调整后模拟结果获得的调整后误差值与所述曝光结果获得的调整后误差值在其原始误差值未位于所述预定范围内时会受到检验。所述调整后模拟參数会受到连续的调整直到其位于所述预定范围内为止。之后调整后误差值未于预定范围内的调整后模拟參数会被收集来获得一光学邻近修正模型，以在光掩模上输出ー图形。在本发明ー实施例中，曝光信息牵涉到一曲线图形，如一圓形或椭圆形。在本发明另一实施例中，曝光数据会包含至少ー第一取样数据、一第二取样数据、一第三取样数据、以及ー第四取样数据。在本发明另一实施例中，所述第一取样数据为所述曲线图形的最大半径与最小半径的其中ー个。在本发明另一实施例中，所述第二取样数据、第三取样数据、以及第四取样数据会分别对应到上述曲线图形的最大半径与最小半径的其中ー个上一点的尺度，且该点会通過下列公式来判定k /2n
其中n为比2大的自然数，而k为比2n小的奇数。在本发明另ー实施例，每ー第二取样数据、第三取样数据、以及第四取样数据是从非対称点获得。在本发明另ー实施例，取样点是从3パ2n)到(2n_3)/(2n)的群组中所选出。在本发明另一实施例中，原始模拟结果包含至少ー第一原始模拟数据、一第二原始模拟数据、一第三原始模拟数据、以及一第四原始模拟数据，其分别对应到曝光数据的第一取样数据、第二取样数据、第三取样数据、以及第四取样数据。在本发明另一实施例中，曝光数据是通过将曝光结果的影像数据与数字数据作比对而获得。在本发明另一实施例中，原始模拟參数包含数值孔径(N. A)、sigma in/out值，dsigma in/out值、影像模糊值(image diffusion)、切趾损失(apodization loss) >defstart值中的其中ー个。在本发明另ー实施例中，原始误差值为ー均方根值。在本发明另一实施例中，调整原始模拟參数的动作可能更包含下列步骤。首先，将原始模拟參数的一第一參数调整至最小值。调整后的误差值会被检验以确认其是否位于预定范围内或是小于先前的误差值。在本发明另一实施例中，其方法可能更包含下列步骤。所述第一參数在其调整后最小误差值小于原始误差值时会被固定。在本发明另一实施例中，其方法可能更包含下列步骤。所述第一參数会被调整至最大值并在第一參数调整后最小的误差值不小于先前误差值时会受到检验来确认所述调整后误差值是否位于预定范围内或是小于先前的误差值。在本发明另一实施例中，其方法可能更包含下列步骤。首先，调整后模拟数据的下一參数会被调整至最小值。接着，从调整后的模拟结果、曝光结果、所述下ー參数、及所述固定后的第一參数来获得ー下ー调整后误差值并判定其是否位于预定范围内或是小于其先前误差值。在本发明另一实施例中，其方法可能更包含下列步骤。在现有调整后误差值变得小于先前的调整后误差值时固定所述下ー參数。在本发明另一实施例中，其方法可能更包含下列步骤。在最大值的第一參数的所述调整后误差值仍未小于原始误差值或是先前误差值时结束所述第一參数的调整动作。在本发明另一实施例中，其方法可能更包含下列步骤。首先，将原始模拟參数的一第一參数调整至一第一可能值的一半。接着，检验所述调整后误差值来判定其是否位于预定范围内。在本发明另一实施例中，所述第一可能值为ー最小值或ー最大值中的其中ー个。在本发明另一实施例中，其方法可能更包含下列步骤。在所述调整后误差值小于原始误差值或是先前误差值时固定所述第一參数。在本发明另一实施例中，其方法可能更包含下列步骤。在所述第一參数的调整后误差值大于原始误差值或先前误差值时将所述第一參数调整至一第二可能值的一半并进行检验来判定所述调整后误差值是否位于预定范围内。在本发明另一实施例中，所述第二可能值为ー最小值与ー最大值中的其中ー个，而所述第一可能值与所述第二可能值不相同。无疑地，本发明的这类目的与其它目的在阅读的人读过下文以多种图示与绘图来描述的优选实施例细节说明后将变得更为显见。
图1-3描绘出本发明经由一曝光结果来改进光学邻近模拟的方法。其中，附图标记说明如下无
具体实施例方式本发明方法可借由收集可接受的调整后模拟參数来得到一用以在光掩模上输出图形的光学邻近修正模型。这些调整后的模拟參数可经由本发明方法获得，且其调整后误差值会位于ー预定范围内。图1-3说明了根据本发明一曝光结果来改进光学邻近模拟的本发明方法。图1绘示出本发明方法的一流程图。首先，先提供一来自实际曝光结果的曝光信息。曝光信息中会有多种的曝光数据，此即代表，为了要达到成功的曝光动作以及获得成功的曝光结果，从曝光结果的曝光信息中所获得的多个曝光数据中都要加以判定。举例来说，上述的曝光数据可能包含有数值孔径(Numerical Aperture, NA)、衍射光学元件(Diffractive OpticalElements, DOE)设定(包含环形或一般)、sigma in值或sigma out值等信息。在本发明ー实施例中，曝光信息来自一曲线图形。所述曲线图案可能为圆形、椭圆形、或类似的形状。在本发明另一实施例中，曝光数据会含有多个曝光数据，如至少四个曝光资料。就简单的例子来说，曝光数据会含有至少ー第一取样数据、一第二取样数据、一第三取样数据、以及一第四取样数据。曝光数据可借由将实际曝光结果的影像数据来与曝光结果的数字数据作比对而获得。上述的影像数据可能来自SEM照片。影像数据亦可能为从SEM线宽量测机台所获得的数据，而数字数据则可为从上述SEM照片所获得的资料。举例来说，光掩模上来自数字数据的图形会经由ー曝光程序而转移到基材上以形成影像数据。影像数据与数字数据理论上应实质相同。故此，曝光数据可通过比对实际曝光结果的影像数据与曝光结果的数字数据而获得。上述图形的对准标记可用来作为影像数据与数字数据两个比对的參照物，以获得曝光数据。现在请參照图2A与图2B。在曲线图形的例子中，其可能是如图2A中所示圆形般、具有単一直径的曲线图形，或是如图2B中所示椭圆形般、具有ー最长直径与一最短直径的曲线图形。第一取样数据最好是上述圆形图案的直径，或是上述曲线图形的最长或最短直径。再来，如图2A与图2B所示，第二取样数据、第三取样数据、及第四取样数据最好分别对应到所述曲线图形ー直径上、或是最长或最短直径其中一个上的一取样点的尺寸。而所述多个第二取样数据、第三取样数据、及第四取样数据最好也能是从所述直径上所获得的不对称点。举例来说，所述多个点可选自下列公式所定义出的群组k /2n其中n为比2大的自然数，而k为比2n小的奇数。当n=3吋，k可为1，3，5及7。当n=4吋，k可为1，3，5，7，9，11，13及15。在较佳的情况下，n大于3时最小的k值(k=l)与最大的k值(k=2n-l)可以加以省略。图2A中描绘出3/16、5/16、及9/16等点，而图2B中则描绘出5/16、7/16、及13/16等点。在本发明中，对应曝光结果的原始模拟结果会被提供来用于后续流程中。所述原始模拟结果并非是使用实体的光刻装置获得，而是得自模拟一曝光结果的光学模拟。上述的光学模拟可以从progen模型获得，其结果应与曝光结果越像越好。为了要获得与曝光结果相近的良好模拟结果，原始的模拟结果中会有多种相关的模拟參数。一旦使用不同的所述多种相关模拟參数，所得的模拟结果也会因此跟着改变。这些与原始模拟结果直接相关的參数就称作原始模拟參数。在实作中存有多种不同的原始模拟參数，如数值孔径(N. A)、sigma in/out值，dsigma in/out值、图像模糊值(imagediffusion)、切趾损失(apodization loss) >def start值等。本发明的目的即在于获得与实际曝光结果最相近的优化后模拟參数。这类模拟參数将可帮助建构ー用以在光掩模上输出图形的光学邻近修正模型。如图3所示，其比较出实际曝光结果与原始模拟结果两个间的不同。为了简明之故，下列的例子将仅绘示出一圆形图像的曝光型态，但同样的原理可以应用到其它的曲线图形中。在理想状态下，原始模拟结果会与实际曝光结果ー模一祥。但由于原始“模拟结果”是从ー原始模拟參数群组中模拟而得，故原始模拟结果可能不会与实际的曝光结果相近，或是有些偏差存在。因为原始模拟參数是用来判定原始模拟结果相似程度的决定性因素，故原始模拟參数需要进行调整，以判定其原始模拟结果是否已实质上偏离了实际的曝光結果。原始模拟结果对实际曝光结果之间的相似度是以ー个称为误差值的数值来判定的。那些直接对应原始模拟參数的误差值称为“原始误差值”。同样地，与一调整后模拟參数直接对应的误差值则称为“调整后误差值”。换句话说，从原始模拟结果获得的原始误差值与从曝光结果获得的原始误差值需要进行检验，来确认原始误差值是否有位于ー预定范围内，以代表所述两结果(即模拟结果与实际結果)之间的相似程度。在本发明ー实施例中，假如原始误差值有在ー预定范围内，如未超过2.0，其模拟结果会被认为是与实际曝光结果够近似，这些模拟參数将可被收集来获得ー用以在光掩模上输出图形的光学邻近修正模型。在本发明另一实施例中，假如原始误差值超出一预定范围外，原始模拟參数将会需要进行调整与实质优化，以获得改良后的模拟參数。此流程会一直重复到所述误差值位于一预定范围内为止。因为模拟结果要对应到实际的曝光结果，故模拟结果应与曝光数据具有相同的模拟数据数目。在ー态样中，假如曝光数据共含有四个取样数据，模拟数据亦可能会具有四个模拟数据。在另ー态样中，假如曝光数据含有至少四个取样数据或是超过四个取样数据，模拟数据亦可能会具有至少四个取样数据或是超过四个取样数据。换句话说，第一原始模拟数据(Xl)、第二原始模拟数据(X2)、第三原始模拟数据(X3)、及第四原始模拟数据(X4)会分别对应到曝光数据中的第一取样数据(SI)、第二取样数据(S2)、第三取样数据(S3)、及第四取样数据(S4)。在本发明ー实施例中，误差值可能为模拟数据与取样数据的均方根值。假设实作中共有n个模拟数据(Xi)与n个取样数据
(Si)，其误差值将可以下列公式来表示
误差值=[E(S1-Xi)Vn]1/2假如来自原始模拟參数的原始误差值并未位于ー预定范围内，则所述原始模拟參数将会需要进行进一步的调整与实质优化，以获得改良后的模拟參数。其后，从调整后的模拟数据获得的新误差值(现在称为调整后误差值)需要被检验来判定从所述调整后模拟数据以及所述曝光数据获得的调整后误差值是否位于预定范围内。同样地，所述误差值亦是使用上述公式来求得。在第一阶段直接进行调整的原始模拟參数可称为“第一调整后模拟參数”。所述第一调整后模拟參数是用在模拟步骤中来获得ー调整后的模拟结果，其可称为第一调整后模拟結果。由于所使用的模拟參数不同，调整后的模拟结果应会与原始的模拟结果不同，且因此会有新的模拟数据产生，称之为调整后仿真数据。举例来说，假如曝光数据含有四个取样数据，也就是第一取样数据、第二取样数据、第三取样数据、及第四取样数据，新的模拟数据也会含有四个调整后的模拟数据，其可个别对应到前述曝光数据的第一取样数据、第二取样数据、第三取样数据、及第四取样数据。图3即绘示出一原始模拟结果(之前)与ー调整后的模拟结果(之后)。下列步骤将演示出ー调整原始模拟參数的可能流程。首先，从原始模拟參数中选出ー參数(也就是第一參数)。所述第一參数可为ー逻辑选择，例如ー数值孔径。接着，所述原始模拟參数的第一參数会被调整为一最小值。之后，根据上述原理将可获得一调整后误差值并可对其进行检验以确认所述调整后误差值是否位于ー预定范围内。上述作法将会有两种可能结果产生，一个为所述调整后的误差值位于预定范围内，一个为所述调整后的误差值不位于预定范围内。假如所述调整后的误差值位于ー预定范围内，例如不超过2. 0，这些调整后误差值位于预定范围内的调整后模拟參数将可被收集起来获得ー用以在光掩模上输出图形的光学邻近修正模型。或者，假如所述调整后误差值并未位于ー预定范围内，则所述调整后的模拟參数将会需要进行进一步的调整与实质优化以获得改良后的模拟參数。在本发明ー实施例中，当第一參数处于最小值的调整后误差值小于先前/原始误差值时，其第一參数在下列步骤中将会保持不变(即固定在所述最小值)。在本发明另ー实施例中，假如第一參数处于最小值的调整后误差值未小于原始误差值时，所述第一參数则会被调整为最大值。当所述调整后误差值使用最大值的第一參数时，所述调整后误差值会再一次被检验来判定其是否位于预定范围内或是是否小于先前具有最小值的(调整后)误差值。当第一參数为最大值的调整后误差值小于原始误差值时，所述第一參数在之后的步骤中会保持不变(即固定在所述最大值)。假如第一參数为最大值的调整后误差值仍不小于具有最小值的先前(调整后)调整后误差值，其可能意味着所述第一參数的灵敏度与重要性已不足以用来调整模拟数据，故所述第一參数之后将不会再进行任何调整(或调整步骤结束)，并因而再从原始模拟參数中选出另ー參数(称为下ー參数或第二參数)来导入进ー步的调整中。根据上述流程，由于流程中舍弃了第一參数的调整，接着便由一下ー參数(即调整后模拟參数的第二參数)来根据上述原理进行调整。举例来说，所述下ー參数会被调整成最大值或最小值以确认下ー调整后的误差值是否会位于预定范围内或是小于先前的误差值。假如某些下ー參数可使得对应的下一调整后误差值位于预定范围内，则这些调整后误差值位于预定范围内的调整后模拟參数将可被收集来获得ー用以在光掩模上输出图形的光学邻近修正模型。假如某些下ー參数可使所对应的下一调整后误差值小于先前的误差值，则所述多个下一參数在之后的步骤中同样都会被固定在其现有值。上述选择、调整、及检验等流程将会一直重复进行，直到下ー调整后误差值位于预定范围内为止。下述的步骤中将演示出另一可能用来调整原始模拟參数的流程。首先，从原始模拟參数中选出ー參数(也就是ー第一參数)。所述第一參数可为ー逻辑选择，如一数值孔径。接着，所述来自原始模拟參数的第一參数会被调整成一第一可能值的一半。视其选择，所述第一可能值可能为ー最小值或ー最大值。之后，来自第一參数的调整后误差值会根据前述原则被检验来判定其是否位于ー预定范围内或是否小于先前的误差值。上述作法将会有多种的可能结果产生。如所述调整后误差值会位于ー预定范围内，或是所述调整后误差值仍未位于预定范围内。假如调整后误差值位于预定范围内，例如不大于2. 0，则所述多个调整后误差值位于预定范围内的调整后模拟參数将可被收集来获得一用以在光掩模上输出图形的光学邻近修正模型。或者，假如调整后误差值未位于ー预定范围内，则所述多个调整后的模拟參数将会需要进ー步的调整与实质优化以获得改良后的模拟參数。在本发明ー实施例中，假如来自第一參数的调整后误差值小于先前误差值但却不位于预定的范围内，则所述第一參数在之后的步骤中将会保持不变(即固定在现有值)。在本发明另一实施例中，假如来自第一參数的调整后误差值不小于先前的误差值，原始模拟參数中的第一參数会因此被调整为另一可能值(也就是ー第二可能值)的一半。前述第一可能值与第二可能值互不相同。同样地，假如来自所述第一參数的调整后误差值(所述另一可能值的一半)位于预定范围内，则所述多个调整后误差值位于预定范围内的调整后模拟參数将可被收集来获得ー用以在光掩模上输出图形的的光学邻近修正模型。或者，假如来自第一參数的调整后误差值小于先前的误差值，所述第一參数在之后的步骤中将会保持不变(即固定在某值)。在本发明另一实施例中，假如所述来自另一可能值的调整后误差值未小于所述先前误差值，则原始模拟參数的第一參数将不会受到调整，且会因而再从原始模拟參数中选出另ー參数(称为下ー參数或第二參数)来导入进一步的调整中。根据上述所言，由于流程中舍弃了第一參数的调整，故另由下ー參数(即调整后模拟參数的第二參数)来根据上述原则进行调整。举例来说，所述下ー參数会被调整成一第一可能值的一半或是ー第二可能值的一半。上述第一可能值与第二可能值可为一最小值或一最大值，且互不相同。同样地，下一调整后误差值会被进行检验来判别其是否位于预定范围内或是小于先前的误差值。假如ー下一參数可使得对应的下一调整后误差值位于预定范围内，则所述多个调整后误差值位于预定范围内的调整后模拟參数将可被收集来获得ー用以在光掩模上输出图形的光学邻近修正模型。或者，假如所述下ー调整后误差值小于先前误差值但却未位于预定范围内，则下ー參数同样会在之后的步骤中被固定在ー现有值。上述选择、调整、及检验等流程将会一直重复进行，直到一下一參数能使得对应的下ー调整后误差值位于预定范围内为止，如此这些调整后误差值位于预定范围内的调整后模拟參数可被收集来获得ー用以在光掩模上输出图形的光学邻近修正模型。本发明使用SEM图像来取得建构光学邻近修正模型所需的信息。本发明至少具有下列优点第一，不需要建置额外的机台；第二，本发明可经由省下量测机台的时间以及模型建构的周期时间来減少生产线上的OPC量测时间；第三，本发明可避免第二次量测时图形将会变大的缩减效应；第四，本发明可减少线上量测所导致的线宽变数。第五，本发明可提供良好的尺度信息以及高分辨率的线宽量测；第六，本发明可获得较多用于建构OPC模型的信息(如多重线宽值)。本发明亦可获得准确且必要的圆角化(corner rounding)信
O以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技 术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
权利要求
1.一种从曝光结果改进光学邻近模拟以在光掩模上输出图形的方法，其特征在于，包含:判定来自一曝光结果的曝光信息的多个曝光数据；提供对应所述曝光结果且从多个原始模拟参数所产生的一原始模拟结果；检验从所述原始模拟结果及从所述曝光结果所获得的一原始误差值是否位于一预定范围内；调整所述多个原始模拟参数以获得调整后的模拟参数及一调整后的模拟结果，并在所述原始误差值未位于所述预定范围内时检验从所述调整后模拟结果以及从所述曝光结果所获得的一调整后误差值；调整所述调整后模拟参数直到所述调整后误差值位于所述预定范围内为止；以及收集所述调整后误差值位于所述预定范围内的所述调整后模拟参数，以获得用以在光掩模上输出图形的一光学邻近修正模型。
2.根据权利要求1所述的从曝光结果改进光学邻近模拟以在光掩模上输出图形的方法，其特征在于，所述曝光信息涉及一曲线图形。
3.根据权利要求2所述的从曝光结果改进光学邻近模拟以在光掩模上输出图形的方法，其特征在于，所述曝光信息包含至少一第一取样数据、一第二取样数据、一第三取样数据、以及一第四取样数据。
4.根据权利要求3所述的从曝光结果改进光学邻近模拟以在光掩模上输出图形的方法，其特征在于，所述第一取样数据为所述曲线图形的最长半径与最短半径的其中一个。
5.根据权利要求3所述的从曝光结果改进光学邻近模拟以在光掩模上输出图形的方法，其特征在于，所述第二取样数据、所述第三取样数据、以及所述第四取样数据分别对应到设置在所述曲线图形的最长半径与最短半径的其中一个上的一取样点的尺度，且所述取样点是从下列公式所定义出的群组中所选出k/2n其中η为一大于2的自然数而k为一小于2n的奇数。
6.根据权利要求5所述的从曝光结果改进光学邻近模拟以在光掩模上输出图形的方法，其特征在于，所述第二取样数据、所述第三取样数据、以及所述第四取样数据的每一个皆是从不对称的所述取样点所获得。
7.根据权利要求5所述的从曝光结果改进光学邻近模拟以在光掩模上输出图形的方法，其特征在于，所述取样点是从3/2n至2n-3/2n的群组中所选出。
8.根据权利要求1所述的从曝光结果改进光学邻近模拟以在光掩模上输出图形的方法，其特征在于，所述原始模拟结果包含至少一第一原始模拟数据、一第二原始模拟数据、 一第三原始模拟数据、以及一第四原始模拟数据，所述多个原始模拟数据分别对应到所述曝光数据的所述第一取样数据、所述第二取样数据、所述第三取样数据、以及所述第四取样数据。
9.根据权利要求1所述的从曝光结果改进光学邻近模拟以在光掩模上输出图形的方法，其特征在于，所述曝光数据是通过将所述曝光结果的一影像数据与所述曝光结果的一数字数据作比对而获得。
10.根据权利要求1所述的从曝光结果改进光学邻近模拟以在光掩模上输出图形的方法，其特征在于，所述原始资料参数包含一数值孔径、一 sigma in/out值、一 dsigma in/out 值、一影像模糊值、一切趾损失、或一 def start值。
11.根据权利要求1所述的从曝光结果改进光学邻近模拟以在光掩模上输出图形的方法，其特征在于，所述原始误差值为一均方根值。
12.根据权利要求1所述的从曝光结果改进光学邻近模拟以在光掩模上输出图形的方法，其特征在于，调整所述原始模拟参数的步骤包含将所述原始模拟参数的一第一参数调整至最小值；以及检验所述调整后的误差值是否位于所述预定范围内。
13.根据权利要求12所述的从曝光结果改进光学邻近模拟以在光掩模上输出图形的方法，其特征在于，更包含在所述第一参数为最小值的所述调整后误差值小于所述原始误差值时将所述第一参数固定。
14.根据权利要求12所述的从曝光结果改进光学邻近模拟以在光掩模上输出图形的方法，其特征在于，更包含将所述第一参数调整到最大值，并在所述第一参数为最小值的所述调整后误差值大于所述原始误差值时检验所述调整后误差值是否位于所述预定范围内。
15.根据权利要求13所述的从曝光结果改进光学邻近模拟以在光掩模上输出图形的方法，其特征在于，更包含将所述调整后模拟参数的一下一参数调整为最小值；以及检验从所述调整后模拟结果、所述曝光结果、所述下一参数、以及所述被固定的第一参数中所获得的一下一调整后误差值是否位于所述预定范围内。
16.根据权利要求15所述的从曝光结果改进光学邻近模拟以在光掩模上输出图形的方法，其特征在于，更包含在现有所述调整后误差值变得比先前所述调整后误差值还小时将所述下一参数固定。
17.根据权利要求14所述的从曝光结果改进光学邻近模拟以在光掩模上输出图形的方法，其特征在于，更包含当所述第一参数为最大值的所述调整后误差值仍大于所述原始误差值时退出所述第一参数的调整步骤。
18.根据权利要求1所述的从曝光结果改进光学邻近模拟以在光掩模上输出图形的方法，其特征在于，调整所述原始模拟参数的步骤包含将所述原始模拟参数的一第一参数调整为一第一可能值的一半；以及检验所述调整后误差值是否为于所述预定范围内。
19.根据权利要求18所述的从曝光结果改进光学邻近模拟以在光掩模上输出图形的方法，其特征在于，所述第一可能值为一最小值与一最大值的其中一个。
20.根据权利要求18所述的从曝光结果改进光学邻近模拟以在光掩模上输出图形的方法，其特征在于，更包含在所述调整后误差值小于所述原始误差值时将所述第一参数固定。
21.根据权利要求18所述的从曝光结果改进光学邻近模拟以在光掩模上输出图形的方法，其特征在于，更包含将所述第一参数调整为一第二可能值的一半，并在所述第一参数的所述调整后误差值大于所述原始误差值时检验所述调整后误差值是否位于所述预定范围内。
22.根据权利要求21所述的从曝光结果改进光学邻近模拟以在光掩模上输出图形的方法，其特征在于，所述第二可能值为一最小值与一最大值的其中一者，且所述第一可能值与所述第二可能值不同。
全文摘要
本发明公开了一种用以改进光学邻近模拟的方法，其包含下列步骤首先，判定多个曝光数据；提供对应所述曝光数据且从多个原始模拟参数中产生的一原始模拟结果。之后，检验来自所述原始模拟结果与所述曝光结果的原始误差值来判定其是否位于一预定范围内。接下来，所述原始模拟参数会被调整来获得调整后的模拟参数。所述调整后误差值位于预定范围内的调整后模拟参数会被收集来获得一用以在光掩模上输出图形的光学邻近修正模型。
文档编号G03F7/20GK103019027SQ20121017474
公开日2013年4月3日 申请日期2012年5月31日 优先权日2011年9月22日
发明者黄登烟 申请人:南亚科技股份有限公司