技术编号:2687563
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种,更详细而言,涉及适于在将掩模的图案曝光复制在例如液晶显示器和等离子显示器等大型平板显示器等的基板上时所使用的。背景技术接近式曝光是将表面上涂布有感光剂的透光性基板(被曝光件)保持在曝光装置的工作台上,并且使该基板接近于保持在掩模载置台的掩模保持架上的掩模,使两者的间隔为例如数十ym 数百μ m,通过照射装置,从掩模的与基板相反的一侧向掩模照射曝光用光,由此将绘制在掩模上的图案曝光复制在基板上。另外,尽管接近式曝光中存在将掩模做成与基板相同的...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。