专利名称：接近式曝光装置及接近式曝光方法
技术领域：
本发明涉及一种接近式曝光装置及接近式曝光方法，更详细而言，涉及适于在将掩模的图案曝光复制在例如液晶显示器和等离子显示器等大型平板显示器等的基板上时所使用的接近式曝光装置及接近式曝光方法。
背景技术：
接近式曝光是将表面上涂布有感光剂的透光性基板(被曝光件)保持在曝光装置的工作台上，并且使该基板接近于保持在掩模载置台的掩模保持架上的掩模，使两者的间隔为例如数十ym 数百μ m，通过照射装置，从掩模的与基板相反的一侧向掩模照射曝光用光，由此将绘制在掩模上的图案曝光复制在基板上。另外，尽管接近式曝光中存在将掩模做成与基板相同的大小而一次性曝光的方式，但在该方式下，在将掩模的图案曝光复制在大型基板上时，掩模趋于大型化，将在掩模的挠曲导致对图案的精度的影响和成本等方面出现问题。由于这样的原因，迄今为止，在将掩模的图案曝光复制在大型基板上的情况下，有时会采用所谓步进式的接近式曝光方式，即，使用比基板小的掩模，使工作台相对于掩模步进移动，在每一步中，在将掩模配置在接近基板的状态下，照射图案曝光用光，由此，将绘制在掩模上的多个图案曝光复制在基板上。掩模的挠曲对曝光精度有着很大的影响，特别是在大型掩模方面，掩模的挠曲有增大的趋势，因此优选极力减小挠曲。迄今为止，作为修正掩模挠曲的掩模保持装置，已知有，通过掩模保持架上形成的掩模吸附路将掩模吸附保持，并且，将掩模、掩模保持架和上盖所构成的空间与空气抽吸通路及空气导入通路相连接，调节该空间内部的压力到与掩模的自重相平衡的压力，从而使掩模向与重力方向相反的方向挠曲，抵消掩模的自重挠曲的装置(例如，参照专利文献I)。另外，还公开了如下曝光装置将掩模、透明板和框架体所围成的空间与连接于排气装置的排气管及连接于空气导入装置的导入管相连接，将该空间内部的空气排出或将空气导入，从而修正掩模的挠曲(例如，参考专利文献2)。另外，还有将透明玻璃板固定配置在真空吸附掩模的真空吸附框架的框架内，通过真空抽吸透明玻璃板和掩模之间的空气，由真空吸附框架及透明玻璃板将掩模真空吸附，提高掩模的保持力，从而防止掩模的错动的装置(例如，参照专利文献3)。
专利文献I :日本特开2009-277900号公报专利文献2 :日本特开平8-82919号公报专利文献3 日本特开2006-93604号公报
发明内容
发明要解决的课题但是，根据专利文献1，因为从空气导入通路供给的空气经由掩模保持架与掩模的接合面供给到空气抽吸通路及掩模吸附通路，所以从接合面上只能供给极少的空气。因此，上盖和掩模很快向掩模保持架内部ー侧挠曲，掩模和上盖有折损的可能。另外，专利文献2中，因为将连接于排气装置的排气管及连接于空气导入装置的导入管与空间相连接，通过将空气排出或导入来控制空间内部的压カ，所以，真空发生装置周边需要很多的控制装置。另外，由于使用橡胶垫将掩模安装在框架体上，成本有可能会变高。而依照专利文献3，由于没有从外部导入空气的机构，空间内部变得负压过剩，有可能损伤掩模及透明玻璃板。本发明是鉴于上述课题而提出，其目的在于，提供ー种接近式曝光装置及接近式曝光方法，其能够以比较简单的结构对掩模的挠曲进行修正并将掩模保持，从而能够以高精度进行曝光复制。解决课题的手段通过下述结构来达到本发明的上述目的。
·
(I) ー种接近式曝光装置，其具有基板载置台，其保持作为被曝光件的基板；掩模载置台，其保持具有应曝光图案的掩模；以及照射単元，其借助上述掩模对上述基板照射图案曝光用光，该接近式曝光装置在上述掩模与上述基板接近并以规定的曝光间隙对向配置的状态下，将上述掩模的图案曝光复制在上述基板上，其特征在于，上述掩模载置台具有掩模保持架，其将上述掩模真空吸附在下表面并保持；玻璃盖片，其被保持在上述掩模保持架的上表面ー侧；抽吸机构，其抽吸至少由上述掩模保持架、上述掩模及上述玻璃盖片界定的空间内部的空气，使该空间内部减压；以及空气导入通路，其从外部向被减压的上述空间内部供给空气，且至少有一条。(2)根据上述(I)所述的接近式曝光装置，其特征在干，上述的空气导入通路是配置于上述玻璃盖片与上述掩模保持架的接合部的空气导入槽。(3)根据上述(I)或(2)所述的接近式曝光装置，其特征在于，上述掩模载置台还具有掩模框架，其将上述掩模保持架真空吸附并保持在下表面，且由掩模驱动部来驱动。(4)根据上述(3)所述的接近式曝光装置，其特征在干，上述掩模保持架的上表面具有突起部或凹部，上述掩模框架的下表面具有凹部或突起部，上述掩模保持架的上述突起部或凹部与上述掩模框架的上述凹部或突起部卡合，将上述掩模保持架保持在上述掩模框架的下表面。(5)根据上述(3)或(4)所述的接近式曝光装置，其特征在于，上述掩模框架还具有掩模保持架支承机构，其支承上述掩模保持架，防止上述掩模保持架从上述掩模框架脱落。(6)根据上述(I) (3)中任意一项所述的接近式曝光装置，其特征在干，上述掩模保持架具有保持机构，其将上述玻璃盖片保持在上述掩模保持架的规定的位置。( 7)根据(6)所述的接近式曝光装置，其特征在干，
上述掩模保持架选择其表面密度高于掩模M的表面密度的构件。(8)根据上述(I)所述的接近式曝光装置，其特征在干，上述掩模载置台具有掩模框架，其下表面安装有上述掩模保持架，并且将上述玻璃盖片真空吸附并保持在下表面，上述空间由上述掩模框架、上述掩模保持架、上述掩模及上述玻璃盖片所界定，上述空气导入通路是配置在上述掩模框架与掩模保持架的接合部的空气导入槽。(9)根据上述(8)所述的接近式曝光装置，其特征在干，上述空气导入通路设置在掩模保持架的中央部。
(10)—种接近式曝光方法，其利用上述(I) (9)中任意一项所述的接近式曝光装置，在上述掩模与上述基板接近并以规定的曝光间隙对向配置的状态下，将上述掩模的图案曝光复制在上述基板上，其特征在于，其具有将上述掩模真空吸附在上述掩模保持架的下表面，并将掩模保持的エ序；及在由上述抽吸机构抽吸上述空间内部的压カ的同时，经由上述空气导入通路向上述空间供给上述外部的空气，从而将上述空间内部的压カ调节为规定的压カ的エ序。发明效果根据本发明的接近式曝光装置以及接近式曝光方法，掩模载置台具有掩模保持架，其将掩模真空吸附在下表面并保持；玻璃盖片，其被保持在掩模保持架的上表面ー侧；抽吸机构，其抽吸至少由掩模保持架、掩模及玻璃盖片所界定的空间内部的空气，使该空间内部减压；以及空气导入通路，其从外部向被减压的空间内部供给空气，且至少有ー个。而且，将掩模真空吸附在掩模保持架的下表面，并将掩模保持，另外，在由抽吸机构抽吸空间内部的压カ的同时，经由空气导入通路向空间供给外部的空气，从而将空间内部的压カ调节为规定的压力。因此，掩模载置台能够以比较简单的结构对掩模的挠曲进行修正并将掩模保持，因而能够以高精度将掩模的图案曝光复制在基板上。
图I为用于说明本发明第一实施方式的接近式曝光装置的局部剖视主视图。图2为图I所示的掩模载置台的简要结构的剖视示意图。图3为掩模框架以短跨度将掩模保持架保持的掩模载置台的剖视图。图4为图2所示的掩模载置台的分解剖视示意图。图5为第I实施方式的接近式曝光装置的第I变形例，为掩模框架的凹部与掩模保持部的突起部卡合状态的掩模载置台的主要部分的剖视示意图。图6为第I实施方式的接近式曝光装置的第2变形例，为掩模保持架支承机构的机理说明示意图。图7 Ca)为第I实施方式的第3变形例的掩模载置台的主要部分的放大剖视图，(b)为第4变形例的掩模载置台的主要部分放大剖视图。图8 Ca)为本发明第2实施方式的掩模载置台的简要结构的剖视示意图，(b)为形成于掩模框架与掩模保持架的结合部的空气导入槽的剖视示意图。图9为表示第2实施方式的变形例的掩模载置台的简要结构的与图8 (a)相当的剖视图。符号说明M :掩模PE :接近式曝光装置W :基板I :掩模载置台2:工作台(基板载置台)3 :照射单元·25 :掩模框架25a:凹部26 :掩模保持架26a :关起部32 :玻璃盖片33 :空间35 :空气导入槽(空气导入通路)40 :抽吸机构60 :掩模保持架支承机构70 :保持机构73 :玻璃压件(保持机构)74:填料(保持机构)
具体实施例方式以下，基于附图对本发明的接近式曝光装置的各实施方式进行详细说明。(第I实施方式)图I是本发明第一实施方式的接近式曝光装置的局部剖视主视图。如图I所示，接近式曝光装置PE采用比作为被曝光件的基板W小的掩模M，掩模M由掩模载置台I保持，并且基板W由工作台2保持，使掩模M与基板W接近并以规定的间隙对向配置，在该状态下，从照射单元3向掩模M照射图案曝光用光，由此将掩模M的图案曝光复制在基板W上。另夕卜，使工作台2相对于掩模M向X轴方向和Y轴方向这两个方向步进移动，每一次步进中进行曝光复制。装置基座4上设有使作为第I载置台的X轴进给台5a沿X轴方向步进移动的X轴载置台进给机构5，以使工作台2沿X轴方向步进移动。X轴载置台进给机构5的X轴进给台5a之上，设有使作为第2载置台的Y轴进给台6a沿Y轴方向步进移动的Y轴载置台进给机构6，以使工作台2沿Y轴方向步进移动。在Y轴载置台进给机构6之上，设有工作台2。基板W以由工件卡盘等真空抽吸的状态被保持在工作台2的上表面。另外，工作台2的侧部配置有用于测定掩模M的下表面高度的基板侧位移传感器15。因此基板侧位移传感器15能够与工作台2 —起沿X、Y轴方向移动。在装置基座4上，沿X轴方向配置有多条(图示的实施方式中为4条)X轴直线导轨的导轨51，固定在X轴进给台5a的下表面的滑块51跨架在各导轨51上。由此，X轴进给台5a能够由X轴载置台进给机构5的第I直线电动机20驱动而沿着导轨51在X轴方向往复移动。另外，在X轴进给台5a上，沿Y轴方向配置有多条Y轴直线导引的导轨53，固定在Y轴进给台6a的下表面的滑块54跨架在各导轨53上。由此，Y轴进给台6a能够由Y轴载置台进给机构6的第2直线电动机21驱动而沿着导轨53在Y轴方向往复移动。Y轴载置台进给机构6与エ件台2之间设有用于使工作台2沿上下方向移动的定位分解度较粗、且移动行程及移动速度较大的上下粗调装置7，和能够以比上下粗调装置7更高的分解度进行定位、并使工作台2上下微动、从而将掩模M与基板W的相对面的间隙微调为规定量的上下微调装置8。上下粗调装置7通过后述的设置在微动载置台6b上的适当的驱动机构，使工作台2相对于微动载置台6b上下移动。固定于工作台2的底面的4个部位的载置台粗调轴14与固定于微动载置台6b的直动轴承14a结合，并相对于微动载置台6b沿上下方向进行引导。此外，上下粗调装置7尽管分解度较低，但也优选反复定位精度较高的装置。 上下微调装置8具有固定于Y轴进给台6a的固定台9 ;以及以内端侧向斜下方倾斜的状态安装于固定台9的直线导轨的导向轨道10，经由跨架在该导向轨道10上的滑块11沿着导向轨道10往返移动的滑动体12上，联结有滚珠丝杠的螺母(未图示)，并且滑动体12的上端面与固定于微动载置台6b的法兰盘12a相接触，井能相对于其在水平方向自由滑动。而且，当利用安装于固定台9的电动机17驱动滚珠丝杠的丝杠轴旋转时，螺母、滑块11及滑动体12成为一体，沿着导向轨道10斜向移动，由此，法兰盘12a沿上下微动。需要说明的是，上下微调装置8中，也可以由直线电动机驱动滑动体12，代替由电动机17与滚珠丝杠对滑动体12的驱动。该上下微调装置8在Z轴进给台6a的Y轴方向的一端(图I的左端)设有I台、在另一端设有2台，共计设有3台，分别被独立驱动控制。因此，上下微动装置8基于利用构成后述掩模侧位移传感器27的间隙传感器所得到的多个部位的掩模M与基板W的间隙量的測量结果，对3个部位的法兰盘12a的高度独立进行微调，从而实现对工作台2的高度及傾斜度进行微调。此外，当利用上下微调装置8能够对工作台2的高度进行充分调节的情况下，也可以省略上下粗调装置7。另外，在Y轴进给台6a上，设有与用于检测工作台2的Y方向的位置的Y轴激光干涉仪18对置的条状镜组(bar mirror)19和与用于检测工作台2的X方向的位置的X轴激光干涉仪对置的条状镜组(未图示)。与Y轴激光干涉仪18对置的条状镜组19沿X轴方向配置在Y轴进给台6a的ー侧，与X轴激光干涉仪对置的条状镜组沿Y轴方向配置在Y轴进给台6a的一端。Y轴激光干涉仪18及X轴激光干涉仪支承于装置底座4，配置成分别与总是与之对应的条状镜组对置。需要说明的是，Y轴激光干涉仪18沿X轴方向分开设置2台。通过2台Y轴激光干涉仪18，借助条状镜组19检测出Y轴进给台6a乃至工作台2的Y轴方向的位置及偏摆误差。另外，通过X轴激光干涉仪，借助对置的条状镜组，检测出X轴进给台5a乃至工作台2的X轴方向的位置。參照图2，掩模载置台I具有大致呈长方形的框体形成的掩模基架24 ;以及经由间隙插入并支承于该掩模基架24的中央部开口，并能够沿Χ、Υ、Θ方向(Χ、Υ平面内)移动的掩模框架25。掩模基架24由从装置底座4突出设置的支柱4a保持在工作台2的上方的规定位置。掩模框架25的中央部开口的下表面,设有框架形状的掩模保持架26。S卩,在掩模框架25的下表面，设有连接于未图示的真空式抽吸装置的多个掩模保持架吸附槽30，通过多个掩模保持架吸附槽30，将掩模保持架26吸附保持在掩模框架25上。掩模保持架26的下表面开设有用于吸附掩模M的未绘制掩模图案的周缘部的多个掩模吸附槽31，借助掩模吸附槽31，通过未图示的真空式抽吸装置，将掩模M把持在掩模保持架26的下表面，并能够自由装卸。另外，掩模保持架26的上表面载置有用于覆盖掩模保持架26的开口的玻璃盖片32。因此，由掩模保持架26、掩模M及玻璃盖片32界定出空间33。 掩模保持架26上形成有与空间33连通的抽吸通路34，该抽吸通路34与抽吸机构相连接。并且，在掩模保持架26的上面，与其所载置的玻璃盖片32相接触的接合部的一部分，形成有将空间33与外部连通的至少一条(本实施方式中为多条)空气导入槽(空气导入通路)35。因而，空间33除了空气导入槽35的部分以外，呈由外部封闭的状态。需要说明的是，图2中，掩模吸附槽31、抽吸通路34、空气导入槽35表示在同一剖面上，但不限于此，抽吸通路34、空气导入槽35能够形成在俯视时所期望的位置上。例如，当空间33呈与掩模保持架26的外部相连通的结构时，抽吸通路34可以形成在任意的位置。另外，空气导入槽35的尺寸，S卩，由空气导入槽35与玻璃盖片32所形成的剖面尺寸，设定为利用抽吸机构40足以能够调节压力的大小。抽吸机构40具有通过连接管41与空间33相连接并抽吸空间33内部的空气的风机42及负压辅助罐43。在连接管41的途中，设有流量计44、流量调节机构45及压力调节机构46，利用这些机构将空间33的压力调节至规定的压力。具体而言，调节流量调节结构和压力调节机构，由风机42和负压辅助罐43抽吸空间33内部的空气，使该空间33内部的压力减压，从而将由于自重而向下方挠曲的掩模M的挠曲修正。另外，因为随着空间33内部的减压，外部的空气经由空气导入槽35流入到空间33内部，所以空间33内部的压力由风机42和负压辅助罐43所致的从空间33抽吸的空气抽吸量与从空气导入槽流入的外部空气的流入量的平衡而决定。另外，为使掩模保持架26不致因掩模M的自重而挠曲，可将掩模保持架26的厚度t选择为使其表面密度高于掩模M的表面密度。因而，用未图示的压力计检测空间33内部的压力与大气压的压力差、或空间33内部的压力与掩模吸附槽31的压力差，并同时调节流量计44、流量调节机构45或压力调节机构46，由此就能够将空间33内部的压力调节到规定的压力。另外，除了利用空气导入槽35与抽吸机构40来实现上述平衡的初期的调试时之外，在运转时，由于只是利用抽吸机构40连续从空间33抽吸空气，所以利用简单的机构就能够实现空间33内部的稳定的压力，由此能够修正掩模M的挠曲。并且，当空间33内部的压力下降时，因为外部的空气经由空气导入槽35流入到空间33内部，因此，即使风机42和负压辅助罐43连续抽吸空间33内部的空气，空间33内部的压力也不会过度下降，不会由于过度的压力差而损伤掩模M及玻璃盖片32。
需要说明的是，抽吸机构40可以是至少具有ー个流量计44的结构，另外，也可以是具有流量调节机构45和压カ调节机构46中的任意ー个的结构。另外，如图3所示，掩模框架25也可以是分割形成多个且能够相互接近及分离的结构。由此，能够与掩模M (掩模保持架26)的大小相应地，由掩模框架25以短跨度将掩模保持架26保持，进而能够修正掩模保持架26的挠曲。其结果是，能够抑制掩模保持架26的接曲所导致的影响，进一步提闻隱光精度。另外，如图4所示，因为构成掩模载置台I的各部件通过真空吸附被吸附保持，所以能够轻易拆解。因而，例如，在由未图示的机器人等将掩模M吸附保持于掩模保持架26时，在因掩模M和掩模保持架26的相互干扰而使掩模保持架26的掩模保持面(下表面)受到损伤等情况下，很容易将其拆解，对该掩模保持面进行研磨修复。需要说明的是，回到图1，在掩模保持架26的上方，分别配置有能够移动的掩模侧位移传感器27和校准摄相机28，上述掩模侧位移传感器27构成用于测定基板W的上面的高度并测定掩模M与基板W的对向面间的间隙的间隙传感器，上述校准摄相机28作为拍摄掩模M的对准标记(未图示)和设于基板W侧的对准标记(未图示)，或者设于工作台2或掩模基架24的基准对准标记(未图示)的机构。另外，限制孔径机构29具有根据需要遮住保持于掩模框架25的掩模M上的任意范围的曝光用光的遮光板(未图不)，由此限制曝光范围。如上所述，根据本实施方式的接近式曝光装置PE，掩模载置台I具有将掩模M真空吸附并保持于其下表面的掩模保持架26 ;保持于掩模保持架26的上表面侧的玻璃盖片32 ;抽吸由掩模保持架26、掩模M及玻璃盖片32界定的空间33内部的空气，使该空间33内部减压的抽吸机构40 ;以及从外部向被减压的空间33内部供给空气的至少ー个空气导入槽35。而且，将掩模M真空吸附在掩模保持架26的下表面以将掩模M保持，并且，由抽吸机构40抽吸空间33内部的压力，并经由空气导入槽35向空间33供给外部的空气，由此将空间33内部的压カ调节为规定的压力。由此，掩模载置台I就能够以简单的结构对掩模M的挠曲进行修正并将掩模M保持，从而以高精度将掩模M的图案曝光复制在基板W上。另外，由于空气导入槽35配置在玻璃盖片32与掩模保持架26的接合部，因此，通过只对掩模保持架26进行很少的加工，就能够低成本且简单地设置空气导入槽35。由于掩模载置台I还具有将掩模保持架26真空吸附并保持于其下表面，由掩模驱动部驱动的掩模框架25，因此，能够轻易地将掩模框架25与掩模保持架26拆解，从而能够简单地进行掩模保持架26损伤时的修复作业。图5是第I实施方式的第I变形例，掩模框架25在其与掩模保持架26的接合面上形成有凹部25a。另外，在掩模保持架26上，形成有与凹部25a对置的突起部26a。而且，在将掩模保持架26真空吸附于掩模框架25时，通过将突起部26a与凹部25a卡合并吸附，能够将掩模框架25以高位置精度保持于掩模保持架26。另外，尽管一旦掩模保持架26产生挠曲，掩模保持架26与掩模M之间就会发生打滑，掩模M的挠曲状态有可能发生变化,但由于掩模框架25的凹部25a与掩模保持架26的突起部卡合，抑制了掩模保持架26的挠曲，降低了对掩模M的影响。而且，凹部25a与突起部26a的卡合还起着作为掩模保持架26的防脱落装置的功能。需要说明的是，在掩模框架25上形成凹部25a，在掩模保持架26上形成了突起部26a，但也可以相反，在掩模框架25上设置突起部，在掩模保持架上设置凹部，使两者卡合。图6表示第I实施方式的第2变形例，是掩模保持架支承机构的机理说明示意图。掩模保持架支承机构60包括掩模保持架支承体61和驱动机构62。在掩模保持架支承体61的顶端，形成有掩模保持架承受部61a，其为能够与设置在掩模保持架26的下部外周缘部的倾斜面26b结合的倾斜面。掩模保持架支承体61由设于掩模框架25下表面的导向部件63导向，能够在接近或远离掩模保持架26的方向移动。驱动机构62由气缸机构组成,掩模保持架支承体61固定于气缸64的活塞杆65 。而且，通过使气缸64动作而使活塞杆65伸长，由此使掩模保持架支承体61的掩模保持架承受部61a与掩模保持架26的倾斜面26b结合，从下方支承掩模保持架26，即使在不期然间掩模保持架吸附槽30的压力发生了变动的情况下，也能够可靠地防止掩模保持架26从掩模框架25脱落。需要说明的是，掩模保持架26也可以具有与掩模保持架支承机构60相同的机理，配置不从掩模M的下表面向下方突出的掩模支承机构，来支承掩模M的下表面，从而防止掩模M的脱落和挠曲。图7 Ca)是第I实施方式的第3变形例的掩模载置台的主要部位放大剖视图，该掩模载置台具有保持机构70，以将载置于掩模保持架26的上表面的玻璃盖片32保持在规定的位置。保持机构70具有固定于掩模保持架26的上表面的基部71 ;和以设于基部71的栓销为中心自由旋转，且沿着掩模保持架26全周配置的玻璃压件73。玻璃压件73如图中虚线所示，在其垂直竖立的状态下，将玻璃盖片32置于掩模保持架26的上表面之后，将该压件大约转动90°，而变成水平状态，从而压在玻璃盖片32的上表面，由此将玻璃盖片32固定在掩模保持架26的规定的位置。由此防止了玻璃盖片32的错动，消除了玻璃盖片32的错动而导致的对曝光精度的影响。图7 (b)是第I实施方式的第4变形例的掩模载置台的主要部分放大剖视图，作为保持机构，在玻璃盖片32的周围与掩模保持架26的阶梯部之间，配置有由橡胶等弹性体形成的填料74。由此将玻璃盖片32固定在掩模保持架26的规定的位置，从而能够防止玻璃盖片32的错动。需要说明的是，在第3及第4变形例中，可以配置保持机构70和填料74以确保具有空气导入槽35，或者也可以绕过沿玻璃盖片32 —周形成的保持机构70或填料74，形成空气导入槽35。(第2实施方式)图8 (a)为本发明第2实施方式的掩模载置台的简要结构的剖视示意图，(b)为空气导入槽的剖视示意图。需要说明的是，在本实施方式中，在掩模载置台的结构方面与第I实施方式不同，其它部分与第I实施方式相同。与第I实施方式相同或等同的部分标注相同符号或相应符号，简化或省略其说明。掩模框架25的下表面开设有用于吸附玻璃盖片32的周缘部的多个玻璃盖片吸附槽36，由未图示的真空式吸附装置借助玻璃盖片吸附槽36将玻璃盖片32真空吸附并保持于掩模框架25。另外,在掩模框架25的下表面，由螺栓等紧固部件将掩模保持架26与掩模框架25固定为实质上呈一体。由此，由掩模框架25、掩模保持架26、掩模M及玻璃盖片32界定成空间33。
另外，如图8 (b)所示，在未开设玻璃盖片吸附槽36的掩模框架25的边缘，在其与掩模保持架26接合的接合部的一部分，形成有将空间33和外部连通的至少ー个空气导入槽(空气导入通路)35。优选将空气导入槽(空气导入通路)35设于掩模保持架26的中央部，以避免在掩模保持架26的内部产生压力差。因而，除了空气导入槽35的部分，空间33呈由外部封闭的状态。需要说明的是，尽管在本实施方式中，空气导入槽35形成于掩模框架25侧，但也可形成于掩模保持架26侧，另外，空气导入槽35的数量可为任意值。如上所述，根据本实施方式的接近式曝光装置PE，掩模载置台I具有掩模框架25，其下表面安装有掩模保持架26，并将玻璃盖片32真空吸附保持 于其下表面，由掩模框架25、掩模保持架26、掩模M及玻璃盖片32界定的空间33通过设于掩模框架25与掩模保持架26的接合部的空气导入槽35而与外部连通，因此能够实现与图2所示第I实施方式的接近式曝光装置PE同样的效果。图9表示第2实施方式的变形例的掩模载置台的简要结构，相当于图8 Ca)的剖视图。该变形例的掩模载置台I在被真空吸附保持的玻璃盖片32与掩模框架25的接合部，配设有位于玻璃盖片吸附槽36的外侧的0形环等密封部件37，以防止漏气。需要说明的是，与图8 (b)同样,在未开设玻璃盖片吸附槽36的掩模框架25的边缘,在掩模框架25与掩模保持架26的接合部的一部分，形成有未图示的空气导入槽。此外，本发明并不限于上述实施方式及变形例，可适当进行变形和改良等。需要说明的是，在上述实施方式中，本发明的空气导入通路由空气导入槽35构成，但并不限于此，例如，也可于掩模保持架26或玻璃盖片32，形成将空间33与外部连通的贯通孔。
权利要求
1.一种接近式曝光装置，其特征在于，具有 基板载置台，其保持作为被曝光件的基板； 掩模载置台，其保持具有需曝光图案的掩模；以及 照射单元，其借助所述掩模对所述基板照射图案曝光用光， 所述接近式曝光装置在所述掩模与所述基板接近，并以规定的曝光间隙对向配置的状态下，将所述掩模的图案曝光复制在所述基板上， 所述掩模载置台具有 掩模保持架，其将所述掩模真空吸附保持于其下表面； 玻璃盖片，其被保持在所述掩模保持架的上表面侧； 抽吸机构，其抽吸至少由所述掩模保持架、所述掩模及所述玻璃盖片所界定的空间内部的空气，使所述空间内部减压；以及 空气导入通路，其从外部向被减压的空间内部供给空气，且所述空气导入通路至少有一条。
2.根据权利要求I所述的接近式曝光装置，其特征在于， 所述空气导入通路是配置于所述玻璃盖片与所述掩模保持架的接合部的空气导入槽。
3.根据权利要求I或2所述的接近式曝光装置，其特征在于， 所述掩模载置台还具有掩模框架，所述掩模框架将所述掩模保持架真空吸附并保持于所述掩模框架的下表面，所述掩模载置台由掩模驱动部来驱动。
4.根据权利要求3所述的接近式曝光装置，其特征在于， 所述掩模保持架的上表面具有突起部或凹部， 所述掩模框架的下表面具有凹部或突起部， 所述掩模保持架的所述突起部或所述凹部与所述掩模框架的所述凹部或所述突起部卡合，将所述掩模保持架保持在所述掩模框架的下表面。
5.根据权利要求3或4所述的接近式曝光装置，其特征在于， 所述掩模框架还具有掩模保持架支承机构，所述掩模保持架支承机构支承所述掩模保持架，防止所述掩模保持架从所述掩模框架脱落。
6.根据权利要求I 3中任意一项所述的接近式曝光装置，其特征在于， 所述掩模保持架具有保持机构，所述保持机构将所述玻璃盖片保持在所述掩模保持架的规定的位置。
7.根据权利要求6所述的接近式曝光装置，其特征在于， 所述掩模保持架选择其表面密度高于掩模M的表面密度的构件。
8.根据权利要求I所述的接近式曝光装置，其特征在于， 所述掩模载置台具有掩模框架，所述掩模框架的下表面安装有所述掩模保持架，并且将所述玻璃盖片真空吸附并保持于所述掩模保持架的下表面， 所述空间由所述掩模框架、所述掩模保持架、所述掩模及所述玻璃盖片所界定， 所述空气导入通路是配置在所述掩模框架与掩模保持架的接合部的空气导入槽。
9.根据权利要求8所述的接近式曝光装置，其特征在于， 所述空气导入通路设置在掩模保持架的中央部。
10.一种接近式曝光方法，其利用权利要求I 9中任意一项所述的接近式曝光装置，在所述掩模与所述基板接近并以规定的曝光间隙对向配置的状态下，将所述掩模的图案曝光复制在所述基板上， 其特征在于，其具有 将所述掩模真空吸附在所述掩模保持架的下表面，并保持所述掩模的工序；和在由所述抽吸机构抽吸所述空间内部的压力的同时，经由所述空气导入通路向所述空间供给所述外部的空气，从而将所述空间内部的压力调节为规定的压力的工序。
全文摘要
本发明涉及一种接近式曝光装置及曝光方法，其能以简单结构对掩模挠曲进行修正并保持掩模，以高精度进行曝光复制。该掩模载置台(1)具有将掩模(M)真空吸附并保持于其下表面的掩模保持架(26)；保持于掩模保持架(26)上表面侧的玻璃盖片(32)；对由掩模保持架(26)、掩模(M)及玻璃盖片(32)界定的空间(33)内的空气进行抽吸，使空间(33)内部减压的抽吸机构(40)；和从外部向减压空间(33)内供给空气的至少一条空气导入槽(35)。在将掩模(M)真空吸附并保持于掩模保持架(26)的下表面，并由抽吸机构(40)抽吸空间(33)内压力的状态下，经空气导入槽(35)向空间(33)供给外部空气，将空间(33)内压力调节为规定压力。
文档编号G03F1/64GK102955373SQ20121028524
公开日2013年3月6日 申请日期2012年8月10日 优先权日2011年8月10日
发明者汤口悟, 佐藤雅之 申请人:恩斯克科技有限公司