技术编号：2698888
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及适合于作为正型光致抗蚀剂成像式曝光和显影的正型光敏性组合物，该组合物包含正型光致抗蚀剂组合物和具有等于或大于10纳米的平均粒子尺寸的无机颗粒材料，其中由所述组合物形成的光致抗蚀剂涂膜的厚度优选小于5微米。所述正型光致抗蚀剂组合物可以选自(1)包含如下组分的组合物(i)具有酸不稳定基团的成膜树脂，和(ii)光酸产生剂，或(2)包含如下组分的组合物(i)成膜酚醛清漆树脂，和(ii)光活性化合物，或(3)包含如下组分的组合物(i)成膜树脂，(ii)光酸...
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