技术编号：2706435
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 本发明涉及新型涂料组合物和它们通过在反射性基材和光致抗蚀剂涂层之间形成所述新型涂料组合物的薄层而在图像加工中的用途。这样的组合物尤其可用于通过光刻技术制造半导体器件。本发明进一步涉及用于所述涂料组合物的聚合物。背景技术 光致抗蚀剂组合物用于缩微光刻方法，这些方法例如在计算机芯片和集成电路的制造中用于制造小型化电子元件。通常，在这些方法中，首先将光致抗蚀剂组合物的薄涂膜施加于基材材料上，例如用于制造集成电路的硅晶片上。然后烘烤该已涂覆的基材以使该光致抗蚀剂...
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