技术编号：2706878
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型公开了一种应用于光刻工艺的晶片烘烤装置及带有该装置的自动显影机，可直接应用于自动显影机或上胶机。该晶片烤烤装置直接在烘烤室内安装了晶片冷却单元，从而在晶片做完硬烤处理后可马上进行冷却，使得晶片保持在预定温度（环境温度），可以有效防止温度差异导致的化学反应，提高图形均匀性。专利说明晶片烘烤装置及带有该装置的自动显影机[0001]本实用新型涉及一种晶片烘烤装置及带有该装置的自动显影机，其可应用于光刻工艺。背景技术[0002]在半导体器件制造中，经常采...
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