技术编号：2713251
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种用于量子点增强膜（QDEF）的增透膜及其制备方法。所述QDEF膜自上而下依次为阻挡层、量子点层、阻挡层、增透膜。其中增透膜通过电子束蒸发或磁控溅射等方式镀膜而成。由于在QDEF的入光面加上了一层增透膜，从而提升了QDEF的光学入射效率，减少QDEF的引入导致液晶显示器的光学损耗，提高了流明效率。专利说明 [0001] 本发明涉及。 背景技术 [0002] 经过半个世纪的发展和研究，液晶显示器（IXD)已经成为主导的平板显示技术。由 ...
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