技术编号：2728861
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及压印光刻(imprint lithography)工艺，并尤其涉及用于压印光刻工艺的抗蚀剂成分、采用该抗蚀剂成分形成抗蚀剂图案的方法、采用其制造的阵列基板以及该阵列基板的制造方法。背景技术 通常，执行多轮薄膜构图工艺来制造显示图像的平板显示元件。一般而言，采用光刻工艺执行薄膜构图工艺。这里，光刻工艺包括采用曝光和显影工艺在薄膜上形成抗蚀剂图案的步骤，采用该抗蚀剂图案作为蚀刻掩模而蚀刻该薄膜的步骤以及从该薄膜上去除抗蚀剂图案的步骤。由于执行光刻工艺...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。