技术编号：2729107
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体技术的测试方法，尤其涉及一种。 背景技术掩膜版半导体技术中用来提供线路图案以便执行图案转移的光罩，在 半导体领域需要大量的用到。掩膜板的图案正确与否在半导体器件领域是 至关重要的，同样检测掩膜版的图案和性能也相当重要。传统的掩膜版图形和颗粒的检测是利用掩膜版专用激光检测仪器来检 测，而掩膜版的焦深、能量域值等方面的性能评价是用掩膜版直接来制造 产品，再通过产品的良率确认掩膜版是否正常来判断。已有的这种方法只能确认掩膜版上是否有较大图形缺陷的...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。