技术编号：2741305
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光谱，具体涉及一种闪耀凹面全息光栅的分区反应离子束刻蚀方法。背景技术凹面光栅具有色散功能的同时，由于其凹面面形又具备聚焦功能，所以其应用于光谱分析仪器领域相比于平面光栅，能够省略聚焦镜，减小光机结构，利于仪器的小型化。凹面光栅的衍射效率作为重要的技术指标直接影响光谱分析仪器的分辨率及信噪比，因此闪耀凹面全息光栅这种能够实现高衍射效率的凹面光栅是光谱分析仪器行业追求的目标。目前凹面光栅使用平行离子束刻蚀设备刻蚀凹面光栅时，由于凹面基底存在曲率半径R...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。