技术编号：2747405
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种存放光刻技术中所用掩模的掩模盒。背景技术在集成电路制造工艺中，光刻技术被广泛应用。光刻用的掩模是影响光刻性能的 关键物品，如果掩模出现问题，例如其被损坏的情况，将直接影响到许多涉及光刻的制程， 使生产过程不能正常进行。 掩模上刻有预定的图案，可以在光刻过程中将其复制到硅片上形成半导体器件的 电路结构。掩模一般是在石英玻璃基材上以特殊材料形成所述图案，例如目前常用的嵌入 式相移掩模中的一种，即采用硅化钼(MoSi0x)类材质的膜在基材上形成...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。