专利名称：掩模盒的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种存放光刻技术中所用掩模的掩模盒。
背景技术：
在集成电路制造工艺中，光刻技术被广泛应用。光刻用的掩模是影响光刻性能的 关键物品，如果掩模出现问题，例如其被损坏的情况，将直接影响到许多涉及光刻的制程， 使生产过程不能正常进行。 掩模上刻有预定的图案，可以在光刻过程中将其复制到硅片上形成半导体器件的 电路结构。掩模一般是在石英玻璃基材上以特殊材料形成所述图案，例如目前常用的嵌入 式相移掩模中的一种，即采用硅化钼(MoSi0x)类材质的膜在基材上形成所述图案。这种膜 本身较软，容易受到物理损害，而掩模上的图案又通常是微米级，或者深亚微米级的， 一点 微小的损伤即可影响到图案的结构。这些因素都在客观上决定了光刻制程中采用的掩模是 需要仔细保护的物品，应尽量避免在使用或者存储、运输过程中受到损伤。 掩模通常情况存放于特定的与其大小相适应的掩模盒中，目前业界常用的掩模盒 存在明显的缺点。请参见图l所示的掩模盒结构示意图，如图所示，掩模盒l的形状为方 形，其大小和掩模尺寸相适应。整个掩模盒分为盒身11和盒盖12，盒身11和盒盖12通过 铰链连接，可互相合拢或分开，以形成掩模盒1的关闭或开启状态。在盒身11和盒盖12各 自内侧的四个角上均有用于固定掩膜的固定装置13，其作用是在掩模盒1中放置有掩膜时 固定其中放置的掩模，使之不可在存储或者运输过程中于盒中移动。这种掩模盒的缺点在 于，上述的固定结构13是刚性的尖锐结构，出于固定需要，掩模放置状态时，固定结构13必
然很接近掩模。如前所述，构成掩模的材料一般包括石英玻璃基材和基材上形成图案的特 殊材料薄膜，不管哪种材料，尤其以构成图案膜层的材料为甚，它们的物理强度都是非常脆
弱的，在向掩模盒1放置掩模或者取出掩模的过程，掩模非常容易被固定结构13所具有的 尖角划伤。 一旦发生此种情况，被划伤的掩模即告报废，因此，使用目前常用的掩模盒在取 放掩模时具有相当高的风险。
实用新型内容为了在使用掩模盒存放掩模时，避免出现掩模被损伤而报废的情况，提出本实用 新型。 本实用新型的目的在于，提供一种掩模盒，其盒体内部的支持装置及支持装置的
位置均经过专门的设计，可以在很大程度上减少掩膜盒导致掩模损伤的现象。 本实用新型的掩模盒具有方形盒身以及盒盖，所述盒身与盒盖可以闭合以及开
启，以便取放以及存储掩膜。在所述盒身与盒盖的内侧边沿布置有多个支持装置，用于支持
放置于掩膜盒中的掩膜； 其中，所述支持装置具有凸起的弧形支持面，该弧形支持面的一端连接所述盒身 或盒盖的侧壁，另一端连接盒盖的顶面或者盒身的底面，构成向盒内侧空间凸起的弧形支
3持面。 优选地，所述弧形支持面与盒身底面或盒盖顶面的接合部具有台阶状的凸出结 构，该凸出结构用于防止掩模沿弧面滑动而接触到盒身底面，或者掩膜盒倒置时掩膜沿弧 面滑动而接触到盒盖顶面，引起碰伤或擦伤，另外此种结构还可以使掩模固定于水平方向。 上述具有弧形支持面的支持装置具有允许弹性形变的弹性结构，其采用经过弹性 处理的材料制成，如聚甲基丙烯酸甲酯，优选地，盒身以及盒盖的材料亦可采用同样的材 料，它们与所述支持装置一体成型。所述盒身与盒盖的内侧边沿分别具有多个支持装置。支 持装置的数量可以根据需要灵活调整，出于平衡支持的考虑，支持装置在盒身，或者盒盖的 内侧边沿分布的数目一般均不少于3个。 通常为了方便取放以及保护掩模，支持装置在盒身或者盒盖中的位置需要经过特 别设计。以盒身部分的设计为例，在其内侧具有4个支持装置的情况，这些支持装置一般不 设于所述方形盒身的内角顶点部分，4个支持装置可以两两对称地分布在所述盒身内侧的 边沿上，以平衡支持掩膜盒中放置的掩膜。例如可以采用如下的设置方式，两个所述的支持 装置等距地分布在盒身一个内角的两个侧边上，另两个支持装置则对应地分布于对角的两 个侧边上，在这种设置方式下，所述4个支持装置靠近盒身内角中的一组对角两两对称地 分布，而较为远离另一组对角。盒盖内侧边沿的支持装置也可以作同样的设置。上述设计 方式不光可以在掩膜得到稳定支持的前提下达到取放更加方便的效果，也不容易因取放不 当而产生划伤。 此外，基于以上考虑，本领域技术人员还可以根据需要另行设计支持装置的布置 方案。 本实用新型的优点在于 1、由于采用具有凸起的弧形支持面的支持装置，掩模放置于盒中时，其与支持装 置的接触面积大为减少，这样可以得到最大的掩模与支持装置及掩膜盒其它部件之间的空 间，有利于避免掩模被支持装置损伤； 2、支持装置被设置于盒身，或者盒盖内侧边沿，不再是角上，经过这种改变，在掩 模盒中取放掩模时更加容易，因而掩模被损坏的风险可以降低，同时改变设置后的支持装 置同样可以达到稳定支持掩模的效果； 3、采用经过弹性化处理的材料作为支持装置，有利于释放掩模受到的应力，这可 以最小化掩模盒在运输过程中损伤掩模的风险；另一方面，掩模在掩模盒中受到的固定作 用也更好。 为了更容易理解本实用新型的目的、特征以及其优点，下面将配合附图和实施例 对本实用新型加以详细说明。
本申请中包括的附图是说明书的一个构成部分，附图与说明书和权利要求书一起
用于说明本实用新型的实质内容，用于更好地理解本实用新型。
图1为现有技术中所采用的掩模盒结构示意图； 图2为本实用新型提供的掩模盒结构示意图； 图3为支持装置23的单独放大示意图；[0022] 图4为掩模盒2装载掩模的整体示意图； 附图标记说明
1现有技术中所采用的掩模盒
2本实用新型的掩模盒
3掩模
11,21盒身
12,22合主 品mi
13掩模固定结构
23具有外凸弧面的支持装置
231凸出部分
具体实施方式为了更好地理解本实用新型提供的掩模盒的结构和功能，下面结合本实用新型的
具体实施例作进一步说明，但其不限制本实用新型。 掩模盒的结构以及使用状态 在此实施例中提供了一个本实用新型掩模盒的具体设计方案，如图2所示，这种 掩模盒2具有方形的盒身21以及盒盖22，所述盒身21与盒盖22可以闭合以及开启，以便 取放以及存储掩膜。在所述盒身21与盒盖22的内侧边沿布置有多个支持装置23，用于支 持放置于掩膜盒中的掩膜； 其中，所述支持装置23具有凸起的弧形支持面，如图2所示，该弧形支持面的一端 连接所述盒身或盒盖的侧壁，另一端连接盒盖的顶面或者盒身的底面，构成向盒内侧空间 凸起的弧形支持面。 优选地，所述弧形支持面与盒身底面或盒盖顶面的接合部具有台阶状的凸出结构 231，请参见图3所示支持装置23的单独放大示意图。该凸出结构231用于防止掩模沿弧 面滑动而接触到盒身21的底面，或者掩膜盒倒置时掩膜沿弧面滑动而接触到盒盖22的顶 面，引起碰伤或擦伤，另外此种结构还可以使掩模固定于水平方向。参考图4所示的掩模盒 装载掩模的整体示意图可以更清楚了解支持装置23的作用，将掩模3放入掩模盒后，掩模 3将因重力作用沿盒身21具有的支持装置23的弧面滑落，直至被支持装置23的凸出部分 231(未示出)挡住，成为正常放置状态，此时掩模3并不接触盒身21的底面，并且由于凸出 部分231的支持，被固定于水平方向。 上述具有弧形支持面的支持装置23采用弹性材料聚甲基丙烯酸甲酯制成。 在本实施例中，盒身21和盒盖22均具有四个支持装置23。当然，支持装置的数量可以根据需要灵活调整，出于平衡支持的考虑，支持装置在盒身，或者盒盖中分布的数目一 般不少于3个。 为了方便取放以及保护掩模，支持装置23在盒身21或者盒盖22中的位置经过特 别设计。以盒身21的为例，在其内侧具有4个支持装置的情况，这些支持装置都不设于所述 方形盒身21的内角顶点部分，4个支持装置的其中两个等距地分布在盒身21的一个内角的 两个侧边上，另两个支持装置则对应地分布于对角的两个侧边上，在这种设置方式下，所述 4个支持装置靠近盒身的内角中的一组对角两两对称地分布，而较为远离另一组对角。盒盖 22内的支持装置设置与盒身21的设置相应。这种设计方式不光可以在掩膜得到稳定支持 的前提下达到取放更加方便的效果，也不容易因取放不当而产生划伤。 在本实施例中，4个支持装置23，有两个位于盒身21 —角的内角两个边上近角处， 另两个支持装置在对角的两个边上近角处，以盒身21的中心两两对称。这种设计可以使掩 模在盒中得到稳定支持的前提下取放更加方便，不容易因取放不当而产生划伤。放置有掩 模3的掩模盒开启状态时，从较为远离支持装置的区域可以很容易地将掩模自盒中取出， 例如通过一个掩模夹在这些区域夹取掩模。另外，基于以上考虑，还可以根据需要另行设计 支持装置23的布置方案。 由于上述的支持装置23具有外凸的弧形支持面，和掩模接近的为其弧面，并且支 持装置本身所用材料经过弹性化处理，所以不论是在取放过程还是存储状态，都不会产生 损伤掩模的风险。
权利要求一种掩模盒，其具有方形盒身以及盒盖，所述盒身与盒盖可以闭合以及开启，以便取放以及存储掩膜，在所述盒身与盒盖的内侧边沿布置有多个支持装置，用于支持放置于掩膜盒中的掩膜，其特征在于，所述支持装置具有凸起的弧形支持面，该弧形支持面的一端连接所述盒身或盒盖的侧壁，另一端连接盒盖的顶面或者盒身的底面，构成向盒内部空间凸起的弧形支持面。
2. 根据权利要求1所述的掩模盒，其特征在于所述弧形支持面与盒身底面或盒盖顶面 的接合部具有台阶状的凸出结构。
3. 根据权利要求1或2所述的掩模盒，其特征在于所述具有凸起的弧形支持面的支持 装置是允许弹性形变的弹性结构。
4. 根据权利要求3所述的掩膜盒，其特征在于，所述弹性结构与盒身或盒盖一体成型。
5. 根据权利要求1所述的掩模盒，其特征在于，所述的盒身或盒盖具有至少3个所述支 持装置。
6. 根据权利要求1所述的掩膜盒，其特征在于，所述的盒身或盒盖具有4个所述支持装置。
7. 如权利要求6所述的掩模盒，其特征在于，所述4个支持装置两两对称地分布在所述 盒身内侧的边沿上，其中2个支持装置等距地分布在盒身一个内角的两个侧边上，另2个支 持装置对应地分布于和所述内角相对的内角的两个侧边上。
专利摘要本实用新型提供一种掩模盒，用于存放光刻工艺中使用的掩模。这种掩模盒的主要结构包括盒身、盒盖以及位于所述盒身以及盒盖内侧边沿的支持装置，支持装置具有外凸的弧形支持面，采用经弹性化处理的材料制成。使用这种掩模盒可以避免掩模受到损伤的风险。
文档编号G03F1/00GK201540453SQ20092007314
公开日2010年8月4日 申请日期2009年5月31日 优先权日2009年5月31日
发明者左仲, 王明珠, 许俊, 赵庆国 申请人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司