技术编号：2756811
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于在正性抗蚀剂组合物中所使用的抗蚀剂的树脂，包括这种用于抗蚀剂的树脂的正性抗蚀剂组合物，以及使用这种正性抗蚀剂组合物形成抗蚀剂图案的方法。背景技术 最近几年，在半导体元件和液晶显示器元件的生产中，石版印刷技术的发展导致了小型化领域的快速发展。通常，这些小型化技术包括使曝光光源的波长缩短。通常，使用紫外线辐射如g-线和i-线作为曝光光源，但最近，引入了KrF准分子激光(248nm)。满足能使微小尺寸图案再现而需要的高分辨率条件的已知抗蚀剂材料的一...
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