技术编号：2764654
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种在基片上形成薄膜的方法，特别涉及由微米和/或纳米尺寸的图案和/或结构构成，具有微米或纳米级空间结构的化学组合物的薄膜的形成方法。 背景技术 在制造例如集成电路、光器件、磁器件等的时候，被广泛采用的最著名的处理方法就是平版印刷法。平版印刷中最重要的步骤之一是在一基片上沉积薄膜，并在薄膜上产生接触掩模，使得在随后的处理中，通过除去构成该基片的材料或沉积其它材料，将掩模的模式转移到基片上。详细说来，在以亚微米或纳米处理的典型平版印刷方法包括在一基片...
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