技术编号：2777028
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种特别可用于将厚膜成像的光敏性光致抗蚀剂组合物，其含有成膜性碱溶性树脂，光活性化合物，溶剂，和基于光致抗蚀剂总组合物的重量计，用量范围在约2000ppm～约14,000ppm的表面活性剂。优选光致抗蚀剂膜厚度大于20微米。本发明进一步提供一种本发明光敏性组合物的涂覆和成像方法。背景技术光致抗蚀剂组合物用于制造微型化电子元件用的微平版印刷工艺中，如用于制造计算机芯片和集成电路中。通常，在这些工艺中，首先将光致抗蚀剂组合物的膜涂层涂覆到衬底材料上，...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。