技术编号：2778998
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种用于构图工件的方法，具体地，涉及一种通过利用多个 曝光射束改善要在所述工件上构图的图像的方法。背景技术当在掩模或中间掩模(reticle)上生成周期性图案用于生产例如显示器 (如TFT-LCD或等离子显示器)，或当在半导体晶片上直接生成构图(即直 接写入)时，关键的质量要求是在图案中没有如阴影差(shade difference )、 明暗场、条紋或线条这样的缺陷。造成这些缺陷的偏差，如CD (临界尺寸)或位置误差通常非常小，从 几百纳米以下...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。