用于多曝光射束光刻装置的方法

专利名称：用于多曝光射束光刻装置的方法
技术领域：
本发明涉及一种用于构图工件的方法，具体地，涉及一种通过利用多个 曝光射束改善要在所述工件上构图的图像的方法。
背景技术：
当在掩模或中间掩模(reticle)上生成周期性图案用于生产例如显示器 (如TFT-LCD或等离子显示器)，或当在半导体晶片上直接生成构图(即直 接写入)时，关键的质量要求是在图案中没有如阴影差(shade difference )、 明暗场、条紋或线条这样的缺陷。
造成这些缺陷的偏差，如CD (临界尺寸)或位置误差通常非常小，从 几百纳米以下或者小于一纳米。分布在可为1500 x 1200mm的基板(如显示 器光掩模或半导体晶片)上相对大的区域上的该尺寸偏差，可非常难于(虽 不是不可能)通过测量而检测。然而，人眼对于系统变化非常敏感，因而能 检测出图像中的条紋这样小的偏差。人眼对于图像中周期性强度变化极其敏 感。观察距离会影响所述周期性强度变化的显示。通常来说，如果在范围 1-20mm的空间频率上对比度差在大约0.5%以上，周期性强度变化可通过人 眼检测。对于一般的观察距离，大约lmm以下的周期性强度变化不会显示。
周期性缺陷可由在一定方向上图案节距与系统节距之间的拍频而导致。 所述图案节距可定义为图案中等同特征之间的距离。图案节距可在所述构图 的X和Y方向上不同。在光栅扫描系统中的一个系统节距是Y间距，定义 了两个相邻曝光光斑的大小的重心之间沿所述曝光射束扫描方向的距离。沿 扫描方向的数以百计的众多曝光光斑形成工件上的扫描线。曝光光斑可优选 地连续地在扫描线内，但也可在由可连接到调制器的时钟发生器频率决定的 任意给定时间关闭，所述调制器根据所需图案数据调制所述曝光射束。另一 系统节距是X间距，定义了所述曝光射束的两条相邻平行扫描线之间的距 离。X方向上的众多扫描线可形成条带。连在一起的条带将在工件上形成所 需图案。
然而，为提高写入速度而采用多个曝光射束构图的掩;f莫、中间掩模或半 导体晶片可能具有如CD (临界尺寸)误差增加这样的副作用，即打印在工 件上的线条或特征具有较不统一的线宽和/或具有粗糙边缘的特征。
需要这样一种方法和装置，当用多个曝光射束在工件上生成构图时，能
够在不增加CD误差和/或特征粗糙度的情况下，构图任何类型的图案。

发明内容
因此，本发明的目的是提供一种构图工件的方法，克服或至少减少上述
采用多射束图案发生器时CD误差增加的问题。
根据本发明的一个方法实现该目的，即提供一种同时使用多个曝光射束 构图工件的方法，所述工件至少部分由对电磁辐射敏感的层覆盖，所述方法
包括以下步骤通过调整所述多个曝光射束的至少一个曝光射束的量，补偿 相邻曝光射束之间的距离与名义值的偏离，以减少所述工件上所述构图中的 CD误差。
根据本发明的另一个实施例，可只在射束构图边缘特征时，改变所述量。 根据本发明的另 一个实施例，可在构图该特征之前进行所述信息收集。 根据本发明的另 一个实施例，至少部分地在构图期间进行所述信息收
根据本发明的另 一个实施例，所述补偿沿所述多个曝光射束形成的至少 一个条带而变化。
根据本发明的另 一个实施例，在工件上确定相邻射束之间的所述距离。 在根据本发明的实施例中，提供一种同时使用多个曝光射束构图工件的 方法，所述工件至少部分由对电磁辐射敏感的层覆盖。所述方法包括以下步 骤确定任何射束是否相对参考射束具有偏离其预期位置的实际位置，如果 错误定位的射束打印在特征边缘上，则调整所述射束的曝光量。
根据本发明的另 一个实施例，所述调整沿所述多个曝光射束形成的至少 一个条带而变化。
根据本发明的另一个实施例，在所述工件上测量所述实际位置。 根据本发明的另 一个实施例，相邻射束之间的所述位置通过在一参考标 记上进行至少 一次测量而确定。
根据本发明的另 一个实施例，其中所述实际位置在一参考标记上测量。本发明的进一步特征及其优势将从以下给出的本发明的优选实施例和 附图1-5的详细描述中显见，其中只是说明性地给出而不是本发明的限制。


图1示出多射束光学系统的概略视图。
图2示出偏转器和末级透镜，以及三个曝光射束。
图3a示出各个射束之间具有不同间距的多射束。 图3b示出采用如图3a所示射束的写入状况。 图3c示出通过采用如图3a所示射束写二像素线的不同可能。 图3d示出根据本发明用正确尺寸打印线条的一个实施例。 图3e示出根据本发明用正确尺寸打印线条的另 一个实施例。 图4示出根据现有技术的激光图案发生器的一个实施例。 图5示出确定曝光射束之间的间隔距离时所使用的波形图案(meander pattern)的实施例。
具体实施例方式
以下参照附图详细描述本发明。优选实施例是为解释本发明而描述，并 不限制由权利要求定义的本发明的范围。本领域一般技术人员可认识到在以 下说明中可有许多等效变形。
进一步地，参照激光扫描图案发生器描述优选实施例。显然对于本领域 一般技术人员来说，任何曝光装置都可等效应用，例如从IR到EUV的光， x射线，或电子、离子这样的粒子束或原子束。
参考掩模或中间掩模的生产，例如生产在如显示器上的周期性图案来进 一步说明本发明。对于本领域一般技术人员，显然本发明的方法和装置可等 效地应用于掩模、中间掩模显示器或其它半导体器件中任意图案的直接写入 中，包括大面积图案以及小面积图案。
图4示出根据现有技术的激光图案发生器的实施例。在该实施例中，支 撑结构13支承工件10。写入头包括用于在所述工件IO上生成目标像素的光 学系统2以及末级透镜3,并位于基本沿x15方向的导轨16滑动的托架14 上。随托架14移动的部分在图1中以阴影线示出。导轨16大致沿y9方向 移动。在一个实施例中，所述导轨以步进方式移动，所述托架14以连续方
式移动，其中步进移动相应于慢速方向，连续移动相应于快速移动。在另一
实施例中，所述导轨16可以连续方式移动，而所述托架14可以步进方式移 动。在另一实施例中，所述导轨16可以连续方式移动，所述托架14可也以 连续方式移动。在所述实施例中，工件10可在构图时保持在固定位置。支 撑结构13可安排在振动阻尼结构18上。所述振动阻尼结构可优选地由高密 度材料制成，并可由空气垫支撑以进一步阻尼振动。
图4中，为清楚起见省略导轨的远端。光学系统2产生扫描线，即对于 沿导轨的每个x位置可在y方向上写入通常几百像素。许多扫描线将形成条 带。取决于所选择的写入策略，完成的图案包括相互部分重叠或相互不重叠 的许多条带。在一个实施例中，所述光学系统2包括调制器138、准直透镜 组件144和偏转器139,见图1。调制器138可用于改变照明时间周期和/或 来自源17的电磁辐射强度。所述调制器138可例如为常规的声光调制器或 具有基本相同功能的任何其它调制器。偏转器可用于偏转辐射束，生成所述 扫描线。偏转器可为声光偏转器。时钟发生器可连接到调制器并可采用 50MHz频率。扫描线的长度，即条带的宽度可为200)nm。所述扫描线可包 括大约80(H象素。
在另一实施例中，所述光学系统2仅包括所述偏转器139。在所述实施 例中，调制器138可布置在距激光源17的固定位置上。
辐射可从激光源17发出，所述激光源17可固定地安装在导轨上，也可 与所述导轨分离。辐射可由光学系统19在与导轨16大致平行的方向上扩展、 准直、均化和发射，使得其入射到托架14上的拾取光学元件21上，而在沿 导轨移动期间不改变横向位置、角度和剖面。
激光源可为连续或脉沖激光源。激光的波长可为例如413nm。
可利用干涉仪以常规方式进行导轨16与工件的对准，见例如受让人为 与本发明相同的申请人的US5635976。筒言之，本发明图中未示出的控制单 元可初始化从存储设备读取图案数据的操作，并可将指示或命令信号发送到 伺服单元以控制导轨16的移动。时钟发生器可产生时钟信号，该时钟信号 同步数据发送装置、调制器138和偏转器139的步骤。控制单元可提供导轨 相对工件10的准确定位。调制器138和偏转器可由同一时钟信号驱动，从 而可提供高准确性。各种位置监视设备，如附接到移动装置(这里是导轨16) 的干涉仪、偏转器和反射镜可监视导轨16相对工件10和末级透镜3的位置。
所述位置监视装置与移动导轨16的电机一起形成伺服机构。所述伺服机构 可精确控制导轨16的移动。具有一定频率的时钟发生器与具有一定波长的
干涉仪一起可限定初始系统栅格(grid)。其中一个干涉仪，也就是可用于控 制X方向或Y方向上位置的干涉仪的频率上的变化可改变初始系统节距。 可只用一个干涉仪，其中可用分束器生成所述激射束的两个分支，用于两个 方向上的定位控制。 一个分支上的波长的改变或对初始标度以一定因数重调 (即可在X和Y方向上单独设定标度)可用于改变初始系统节距。
工件IO可以适当的方式平移，例如由布置在所述支撑结构13至少一端 上的压电致动器驱动。
在图4的所示的实施例中，所述工件10布置得大致平行于x-y平面。 该x-y平面可为水平面或垂直面。在所述x-y平面与垂直面平行的情况下， 所述工件被称为竖基板。具有竖基板的装置比具有水平基板的机器要求实质 较小的净化室面积、台面面积，但是两个实施例都比常规所用的机器要求较 小的净化室面积。对于竖基板IO，由于相比平行于水平面的基板来说，存在 微粒的暴露区域显著减小，因而所述基板可对污染较不敏感。在另一实施例 中，所述基板可以相对水平面0-90°之间的任意角度倾斜。
竖基板的另一特征是所谓的下垂(sag)可在基板平行于垂直面的情况
义为工件因其重量而造成的变形。下垂的样式取决于基板的支撑结构的类 型、支撑结构的数量以及所述基板本身的大小和几何结构。
步进电机或线性电机可移动导轨。导轨可在空气轴承上滑动。可在导轨 16的每个支撑腿下具有一个空气轴承。在另一实施例中，所述导轨的所述支 撑腿可相互耦接，从而形成包括上部和下部的构架结构，其中所述托架在x 方向上在所述上部上移动，所述下部包括沿y方向的空气轴承。所述下部位 于所述振动阻尼结构18下方，即，所述框架结构的空心部分可在工件上方 移动，所述上部在所述工件上方，所述下部在所述工件下方。
可在所述导轨或所述支撑结构13上存在精细定位。所述精细定位可为 机械和/或电子伺服的方式。在一个实施例中，可在所述导轨上具有两个线性 电机用于执行y方向上的所述移动。所述线性电机可通过旋转导轨的方式操 作而进行精细定位。
在支撑结构13的端支撑上可附接使支撑结构13在y方向上位移的压电 致动器。所述致动器可由模拟电压驱动，该模拟电压来自包括所述干涉仪、 偏转器和反射镜的控制系统，以及感应支撑结构13相对导轨16位置的反馈
回路。致动器可校正步进电机中的有限分辨率及导轨16的不直。每个致动 器可具有100pm的移动范围。
代替用附接到支撑结构13的致动器补偿导轨的非直线运行，所述导轨 可自身调节，使得所述步进或线性电机的有限分辨率可得到补偿。以相似的 方式，致动器可附接到导轨上，并且支撑结构相对导轨的位置可通过干涉仪 而连续监测。
在图4所示实施例中，托架14可在空气轴承22上沿导轨16滑动。它 可由线性电机23驱动，除电缆和空气供应管道外，在导轨16与托架14之 间没有物理接触。作用在其上的唯一的力是来自非接触电机23及来自惯性。
为了补偿有关导轨16直线度的误差或其它对称形状误差，可进行校准。 在机器装配后，必须写入或测量测试板并测量写入/测量误差。该误差存储在
直接安装在所述末级透镜3上方的所述光学系统2中的声光偏转器可形 成扫描线。像素可为300 x 300nm，每个扫描线可为200(im宽。透镜可为焦 距4mm ， NA=0.5的平场校正透镜。
末级透镜3处于正确位置时，x方向上的精细定位可基于开始扫描的脉 沖的定时。y方向上，上述机械伺服可由数据延迟特征补充，即将数据沿声 光扫描移动，如DE4022732A1所述。这等效于将位置控制带宽提高到高于 100Hz的无'1"贾性前々赍4空制系统(inertia free feed forward control system )。
所述托架动程与动程之间允许的角度偏差小于10^:弧度，并且沿所述 动程必须没有任何焦点漂移。这可由多种方式解决。首先，托架14在预载 到高刚度的空气轴承上运行，使得托架14相对导轨16的位置被良好限定而 不依赖于外部空气压力和温度。不完美的导轨可导致沿扫描线的写入误差。 但是，该误差可在校准期间测量，作为校正曲线存储并在写入期间反馈到位 置回馈系统而补偿。通过用准直和束成形光学元件19处理激射束，焦点可 保持恒定。
现参照图1，用于在工件IOO上构图的多射束光学系统可为本发明的系 统的一个例子。多射束光学系统包括激光光源17,激射束101,书t射光学 元件(DOE) 128,调制透镜组件130，调制器138,准直透镜组件144，棱
镜124,声光偏转器139，末级透镜3和工件150。
光源17可具有413nm的输出波长，但是也可采用其它波长。光源连续 地或以脉沖方式车命出激光辐射。
衍射光学元件DOE 128可将单个激射束分成多个激射束，例如，3、 5 或9束，不过通过插入一个或多个DOE 128，任何数目的激射束都可生成。
调制器透镜组件130可将每个单独的激射束聚焦到调制器138。
调制器138可分别单独调制入射的经聚焦的多个激射束。调制器138可 为声光调制器。
棱镜124只为压缩激射束光路的范围而插入到该结构中。
准直透镜组件144可准直来自调制器的每个独立的发散的激射束。准直 透镜组件可^吏激射束在工件150、 10上具有正确的间隔。
声光偏转器139可将激光曝光射束偏转到工件IO上以形成所述扫描线。 末级透镜可将多个激光曝光射束聚焦到所述工件150、 10上。
末级透镜3和调制器138可设置成彼此具有固定或可移动的间距。包括 至少两个透镜的准直透镜组件144可布置在电动导轨上，或可通过其它合适 的装置(例如压电移动)使其内部位置变化或使其绝对位置变化。改变准直 透镜组件到工件150的距离以及改变所述准直透镜组件的焦距可改变激射束 在工件IO上的间距。
改变工件10上各激射束的间距的另一个方式可为调整调制器透镜组件 130，使得在调制器中改变各自激射束之间的间距。
改变工件上各激射束的间距的另一个方式可为机械拉伸DOE 128，从而 改变衍射光栅的节距，导致所需的工件上激射束的间距变化。
图2示出包括偏转器139和末级透镜3的光学系统2的一个实施例的放 大图。各自激光曝光射束之间的初始间距示为101a、 101b和101c。这里采 用三个激光曝光射束，相邻两束激光曝光射束之间的间距在图2中用a或b 表示，可为9.75pm,不相邻的两束激光曝光射束，即最左的激光曝光射束 101a和最右的激光曝光射束101c之间的间距在图2中用c表示，可为 19.5pm。射束的间距基本垂直于通过偏转器139扫描曝光射束的方向，即， 如果所述间距沿X方向延伸，所述激光曝光射束的扫描沿Y方向延伸，这 意味着扫描线沿Y方向延伸而条带沿X方向延伸。在多曝光射束写入策略 中，各自激光曝光射束的初始间距可等于或接近于X方向上系统节距的整数
倍。
如果各自激射束在X方向上的间距不是所述系统节距大小在X方向上 的整数倍，则会在图案中产生边缘粗糙和图案依赖CD (临界尺寸)变化。
图3a示出具有三个曝光射束310、 320、 330的可能状态，其中相邻曝 光射束之间的各自距离不同。多个曝光射束可同时在工件上形成多个扫描线。
多个曝光射束的第 一扫描可以任何距离与多个曝光射束的第二扫描分开。
这里曝光射束310和曝光射束320之间的距离在图3a中表示为360，大 于曝光射束320与曝光射束330之间的距离，在图3a中表示为380。这种情 况下距离360可为相邻曝光射束之间的名义距离，而距离380可小于相邻曝 光射束之间的名义3巨离。
曝光射束310、 320、 330可入射到工件上将形成扫描线310A、 320A、 330A、 310B、 320B、 330B、 310C、 320C、 330C。如果每个相邻曝光射束 360、 380之间的间距/距离相等,则所有扫描线310A、 320A、 330A、 3腦、 320B、 330B、 310C、 320C、 330C可以彼此相等的距离写在工件上。但是， 采用如图3a所示曝光射束时，无论怎么选择多个曝光射束的第一及以后扫 描，每个扫描线也不显示成与其相邻扫描线相距相等的距离。根据曝光射束 之间的间距以及多个曝光射束的两次连续扫描之间的间距，例如扫描线 310A和扫描线310B之间的距离，可对图案有如图3b所示例的改变，这采 用了图3a所示的曝光射束及两次连续的多射束曝光之间的一定距离。
图3b所示形成扫描线的圆圈可表示各个曝光射束的各曝光光斑。沿扫 描线的两个相邻圓圏之间的距离可为该方向上解析度的量度。相邻圓圈之间 的距离越短，解析度越高。图3b所示距离只是例子，两个相邻圆圈之间沿 扫描线的距离可选择设置在任何值。
图3a中箭头350表示将在工件上形成多条扫描线310A、 320A、 330A、 310B、 320B、 330B、 310C、 320C、 330C的多曝光射束310、 320、 330的扫 描方向。箭头370可表示光学头相对工件的移动方向。
采用如图3a所示曝光射束并通过采用曝光射束第一和第二扫描之间特 定距离时，所得写入状态可如图3b所示。由图3b，可容易地理解在打印图 案中可能具有某些CD均匀和粗糙的问题。310A、 320A、 330A表示第一扫
描中的扫描线。310B、 320B、 330B表示第二扫描中的扫描线。310C、 320C、 330C表示第三扫描中的扫描线。部分扫描线比该实施例中所示320A和 310B、以及320B和310C的名义重叠互相重叠得更多，例如扫描线310B和 330A、以及310C和330B。部分扫描线互相重叠得较少，在本例中根本不 重叠，330A和320B、以及330B和320C。其原因可能是相邻曝光射束之间 的距离误差，即由于曝光射束预期位置与曝光射束的实际位置不符，部分曝 光射束未在预期位置入射到工件。因而所得扫描线未写在其预期位置上。一 条或多条曝光射束偏离其预期位置越远，其效果会越明显。扫描线在工件上 的不等重叠会影响所得写入质量，例如，差的CD均匀性。
图3c中，示出通过采用如图3a所示的曝光射束以及图3b所示的写入 状态，写入由线条392、 394定义的二像素线的三个不同的可能性。在名义 宽度情况下，图3c的顶图所示，二像素线可由扫描线310B和320A写入。 扫描线310B和320A可最优地互相重叠，因而这两条扫描线310B和320A 可以其名义宽度写入扫描线。
在低于名义宽度情况下，图3c的中图所示，两条像素线由扫描线310B 和扫描线330A写入。由于扫描线310B和330A彼此太接近，即小于彼此名 义距离，所以这里扫描线相互重叠太多。在低于名义宽度的情况下，二像素 线会太窄。
在高于名义宽度情况下，如图3c的下图所示，两条像素线由扫描线330A 和束/像素320B写入。在这种情况中，根本很难有重叠，因而二像素线比起 其名义宽度会太宽。太宽的原因是离扫描线330A最近的扫描线是扫描线 320B,比离扫描线330A的名义距离更远。
图3d示出根据本发明的一个实施例，如何解决写入二像素线时低于名 义宽度的问题。通过提高像素330的单次量，所述二像素线可以其名义宽度 写入。
在图3d中，有哪个像素将曝光哪一区域的信息。具有该信息和构图数 据，则可在某具体的特征实际曝光前预测哪一像素将曝光所述图案数据中的 具体的特征。 一旦知道射束之间的间距与写入原理，如图3b所示的图案可
容易地被模拟。
假设准备曝光具有x个特征的特定图案。如果选择一定的写入原理，例 如，具体扫描线的重叠以及多个射束的曝光顺序，则会得到一定的写入状态，
例如可为图3b所示的情况。在曝光任何具体特征之前，应了解与名义状态
的任何不符，如图3c所示例，并且能校正这种不符，如图3d和3e所示例。 在曝光一定图案之前，可进行写入的仿真/计算。这种仿真/计算结果可以是 有关哪一像素将曝光哪一区域的表格。不同的写入方式会造成不同的写入状 态从而获得不同的表格。这种表格可与将要构图的图案匹配。如此，因为曝 光射束之间的距离差将导致如图3c所示例的状态，可明显看出哪一像素必 须补偿。
从图3b中显见，曝光射束之间的距离误差将以规则方式表现。但是， 只在误差曝光射束显现在待打印的特征边缘的情况下，才涉及该误差的补偿 或校正，如图3c所示。在图3c中，330A是写在其预期位置外的扫描线。 当在特征边缘处扫描线未处于其预期位置时，可做某些校正以提高最终图案 的CD质量。
由于不同的相邻曝光射束之间的距离可能不同，扫描线可能出现在非预 期位置，如上所述。总可挑出至少一个射束，当作位于其正确的、预期的位 置的参考射束。第一射束可被选作参考射束。也可以选择其它任何射束作为 参考射束，但是选择正确定位的射束可提高将也正确定位的一个或多个其它 射束放在预期位置的可能性。预期位置可与各自曝光射束之间的预设距离有 关。曝光射束可定义为彼此之间距离相等，但是也可能不同的相邻射束预期 彼此距离不相等。
图5示出当射束在y方向上扫描时，测量相邻曝光射束A、 B之间x距 离的实施例。该测量在波形成形图案510上进行。波形成形图案510包括在 玻璃基底上分别为+45度和-45度的铬线512和514。也可采用其它角度，所 选用的角度取决于曝光射束的数目。当两条曝光射束A、 B在波形成形图案 510上在所述y方向上扫描时，所述曝光射束A、 B可产生可由反射探测器 检测的两组反射信号520、 530。由简单的三角学，得出两射束A、 B之间的 实际x距离等于两个反射信号520、 530之间的间距。为了处理波形成形图 案510可能的旋转，需要从两个180度旋转的波形成形图案510取出曝光射 束A、 B的间距作为测量平均。为了可进行间距测量，在测量窗内两个曝光 射束A、 B必须总共有四个反射峰可见(N个射束有2xN个反射)。
在根据本发明的另 一实施例中，可不论所述扫描线是否写在特征边缘上 而进行不在其预期位置的扫描线的校正。可制作一个或多个表格，在表格中
可找到前一扫描线写入(曝光射束开)还是未写入(曝光射束关)的信息。
如图3c中图所示，前一扫描线310B被写入，在这种情况下，可提高扫描线 330A的强度以实现二像素线的名义宽度。当前一扫描线已被写入时，总是 可提高扫描线330A的强度。例如，因为前一扫描线已^^皮写入，在特征中扫 描线330A、 B、 C等的强度可提高。
在图3c的下图中，在扫描线330A之前，前一扫描线未写入。在这种情 况下，不论扫描线330A是否写在特征边缘，应减少扫描线330A的强度。
可具有写入前一扫描线时如何处理至少一个扫描线的第一信息表以及 不写入前一扫描线时如何处理至少一个扫描线的第二信息表。
在上述实施例中，扫描线在图3b中箭头370所示方向上写入。本领域 技术人员可容易地理解如果所述扫描线的方向反转，则对于具体扫描线来 说，提高或降低强度可存在其它条件。所述条件可为所述前一扫描线已被或 未被写入。通过利用生成特定图案的写入原理，前一扫描线指的是最接近任 何给定扫描线的扫描线，例如图3b中，310B的前一扫描线是320A。
具体扫描线的强度补偿可在写入构图的同时利用所述表格中的信息进行。
在根据本发明的另 一实施例中，可沿条带对相邻曝光射束之间的间距变 化进行补偿。例如，在条带开始处，曝光射束间隔形成第一图案，在条带结 束处，曝光射束间隔形成第二图案。其原因可能是光学元件的不理想。所述 间隔可不仅在垂直于扫描多个曝光射束的方向上变化，而是可在扫描所述多 个曝光射束的方向上变化。可在条带的多个位置检测所述间隔图案并存储在 表格中。相邻曝光射束之间间距变化的补偿可沿所述条带补偿。通过在一定 的曝光射束强度上施加合适的变化，写在所述工件上的特征的尺寸可比未补 偿的情况下更接近其名义宽度。在一个实施例中， 一次的曝光量D二f(beam弁， StripXpos),其中beam弁是所涉及的具体曝光射束，而StripXpos是条带的位 置，即扫描开始处，条带中间，条带结束处或沿条带的其它任何位置。
尽管参照附图以及上述示例公开了本发明，应理解这些示例的目的是解
释而不是限制。本领域技术人员易于理解可在本发明的精神和其后权利要求 的范围内进行修改和组合。例如支撑结构可在一个方向上移动，光学系统在 垂直方向上移动，导轨在固定位置上，如US5635976所公开的。
权利要求
1.一种同时使用多个曝光射束构图工件的方法，所述工件至少部分由对电磁辐射敏感的层覆盖，所述方法包括以下步骤通过调整所述多个曝光射束中的至少一个曝光射束的量，补偿相邻曝光射束之间的距离与名义值的偏离，从而减少所述工件上所述图案中的临界尺寸误差。
2. —种同时使用多个曝光射束构图工件的方法，所述工件至少部分由 对电磁辐射敏感的层覆盖，所述方法包括以下步骤收集有关哪一射束将曝光在所述工件上构图的图案中的哪一特征的信良确定相邻曝光射束之间的距离，通过调整所述多个曝光射束中的至少一个曝光射束的量，补偿相邻曝光 射束之间的距离与名义值的偏离。
3. 根据权利要求2所述的方法，其中只在所述射束构图边缘特征时改 变所述量。
4. 根据权利要求2所述的方法，其中在构图该特征之前进行所述信息 收集的步骤。
5. 根据权利要求2所述的方法，其中至少部分地在构图期间进行所述 信息收集的步骤。
6. 根据权利要求1或2所述的方法，其中所述补偿沿所述多个曝光射 束形成的至少一个条带变化。
7. 根据权利要求2所述的方法，其中在工件上确定相邻射束之间的所 述距离。
8. —种同时使用多个曝光射束构图工件的方法，所述工件至少部分由 对电磁辐射敏感的层覆盖，所述方法包括以下步骤确定是否某 一射束相对参考射束具有偏离其预期位置的实际位置， 如果所述错误定位的射束打印在特征边缘处，则调整所述射束的曝光量。
9. 根据权利要求8所述的方法，其中所述调整沿所述多个曝光射束形 成的至少一个条带变化。
10. 根据权利要求8所述的方法，其中在所述工件上测量所述实际位置。
11. 根据权利要求2所述的方法，其中相邻射束之间的所述位置通过在参考标记上进行至少 一次测量而确定。
12. 根据权利要求8所述的方法，其中所述实际位置在参考标记上测量。
全文摘要
本发明的一个方面包括一种同时使用多个曝光射束构图工件的方法，所述工件至少部分由对电磁辐射敏感的层覆盖。在一实施例中，确定是否射束相对参考射束具有偏离其预期位置的实际位置。对于错误定位的射束，如果所述射束打印在特征边缘上，则调整所述射束的曝光量。本发明的其它方面在详细说明书、附图和权利要求中反映。
文档编号G03F7/20GK101194208SQ200580049969
公开日2008年6月4日 申请日期2005年4月19日 优先权日2005年4月15日
发明者弗雷德里克·肖斯特罗姆 申请人:麦克罗尼克激光系统公司