技术编号：2782574
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及在被处理基板的表面上形成处理液的膜，与曝光装置连动，在基板上形成规定图案的基板处理系统。背景技术 例如，在LCD的制造中，在作为被处理基板的LCD基板上形成规定的膜后，涂布光致抗蚀剂液，形成抗蚀剂膜，与电路图案对应，使抗蚀剂膜曝光，利用对该膜进行显象处理的所谓光刻技术，形成电路图案。在这种光刻技术中，作为主要工序，被处理基板的LCD基板，经过洗涤处理→脱水烘焙→粘附(疏水化)处理→涂布抗蚀剂→预烘焙→曝光→显象→后烘焙的一系列处理，在抗蚀剂层上形...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。