光刻设备的制作方法技术资料下载

技术编号:2783025

提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。

本发明涉及一种光刻设备。特别地,本发明涉及包括用于在投影系统下面延伸的体积中提供调节的气体流的气体调节结构的光刻设备。背景技术 光刻设备是一种将所需图案施加在基底上,通常施加在基底的靶部分上的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造。在这种情况下,构图装置,可替换地称作掩模或分划板,可用于产生要形成在IC单独层上的电路图案。该图案可以传递到基底(例如硅晶片)的靶部分上(例如包括部分、一个或者多个管芯)。图案的传递通常通过成像到基底上提供的一层辐射敏...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。

详细技术文档下载地址↓↓

提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
该分类下的技术专家--如需求助专家,请联系客服
  • 孙老师:1.机机器人技术 2.机器视觉 3.网络控制系统
  • 杨老师:物理电子学