技术编号：2785645
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明是关于一种平版印刷用防护薄膜组件，其在制造LSI、超LSI等 半导体装置时作为防尘器使用。本发明的防护薄膜组件，在使用200nm以 下的紫外线以获得高解析度的情况下亦可适当应用之。背景技术以往在LSI、超LSI等半导体装置的制造中，是用光照射半导体晶圆以 形成图案，惟若此时所使用的掩模(曝光原版)有灰尘附着的话，由于该灰尘 会吸收光，使光反射，故除了会让转印的图案变形，让边缘变粗糙以外， 还会损坏尺寸、品质、外观等，导致半导体装置的性能或制造成品率降...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。