技术编号：2795151
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及适合包括例如248nm、193nm和157nm的亚-300nm和亚-200nm的短波长成像的新光致抗蚀剂组合物。本发明的光致抗蚀剂可以表现出与SiON和其它无机表面层有效的粘附性。优选本发明的光致抗蚀剂包含具有光酸不稳定基团的树脂，一种或多种感光酸生成剂化合物和一种增粘添加剂化合物。背景技术 光致抗蚀剂是用于将图像传递到基底上的感光膜。一层光致抗蚀剂涂层在基底上形成，然后将该光致抗蚀剂层通过光掩模曝光于激活辐射源。光掩模具有对激活辐射不透明的区域...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。