技术编号：2798985
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及施涂在用于浸渍光刻法(Immersion lithography)中的光刻胶组合物上面的外涂(overcoating)层组合物。背景技术 光刻胶是用来将图像转移到基片的光敏薄膜。在基片上形成光刻胶涂层，然后将光刻胶层透过光掩模在活化辐射源下曝光。该光掩模具有对活化辐射为不透明的区域和对活化辐射为透明的其它区域。在活化辐射下曝射使光刻胶涂层发生光致的化学变化，从而将光掩模的图案转移到光刻胶涂布的基片上。曝射之后，对光刻胶进行显影，产生允许对基片进行...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。