技术编号：2802296
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 本发明涉及显影液，特别是涉及一种光阻曝光后图像形成时所用的碱性水系光阻显影液。 背景技术 光阻广泛应用在集成电路、印刷基板电路、彩色液晶装置或彩色滤光片的配线图案的形成中。在配线图案的形成工艺中，首先将颜料分散液、溶剂、感光性树脂及相关的添加剂混合调制成光阻，然后将光阻涂布于基板上并进行预烤，之后以光罩曝光后，再用显影液洗去未曝光部位的光阻，即可制得所需图案的光阻膜。涂布的方式有染色法、印刷法、电著法及颜料分散法，而常见的显影方式有浸渍显影、摇动显影...
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