技术编号：2809707
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明是关于一种过滤装置，特别是关于一种可配置于光罩储存装置内或微影系统的光罩取放装置内的过滤装置，用以避免悬浮分子污染物(AMC)形成薄雾(Haze)于光罩表面。背景技术在半导体工艺中，微影设备是扮演最重要的角色之一。微影设备可以将光罩(reticle)上的线路图案，完整且精确地成像于圆片上的光阻，其由重复(repeat)移动圆片位置并重复地曝光，以完成整个圆片的曝光。在此重复曝光的过程中，圆片表面受光束的重复照射及曝光后，会在微影设备中产生一些悬浮分子...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。