专利名称：配置于微影系统的光罩取放装置内的过滤装置的制作方法
技术领域：
本发明是关于一种过滤装置，特别是关于一种可配置于光罩储存装置内或微影系统的光罩取放装置内的过滤装置，用以避免悬浮分子污染物
(AMC)形成薄雾(Haze)于光罩表面。
背景技术：
在半导体工艺中，微影设备是扮演最重要的角色之一。微影设备可以将光罩(reticle)上的线路图案，完整且精确地成像于圆片上的光阻，其由重复(repeat)移动圆片位置并重复地曝光，以完成整个圆片的曝光。在此重复曝光的过程中，圆片表面受光束的重复照射及曝光后，会在微影设备中产生一些悬浮分子污染物(airbome molecular contamination, AMC)，而此悬浮分子污染物(AMC)会污染光罩。如果在光罩上有悬浮分子污染物(AMC)的薄雾(Haze)形成时，则此薄雾(Haze)会随着每次曝光而成像于每一曝光区，此称之为重复缺陷(repeated defect),这会造成圆片良率(yield)的严重损失。而上述薄雾(Haze)的形成，可能是由于光罩在曝光后回收时，伴随进入光罩取放装置而污染相邻的其它光罩。
在公知解决此污染问题的方法只是在该光罩取放装置中，导以清洁干燥的空气(clean dry air， CDA)或氮气，以稀释的方式将含有悬浮分子污染物(AMC)的气体逐渐排放到设备外面。然而，悬浮分子污染物(AMC)仍有可能未完全排出或在排出的过程中污染光罩，使薄雾(Haze)形成于光罩表面。
发明内容
为解决公知技术中存在缺陷失，本发明提供一种配置于微影系统的光罩取放装置内的过滤装置，其目地在于提供一种过滤装置，配置于微影系统中，此过滤装置由于其尺寸与光罩相同，可以与光罩相邻排列于光罩取放装置内的支撑架。因此，当光罩曝光后收回时，伴随光罩的悬浮分子污染物(AMC)可以被相邻的过滤装置所过滤，能直接有效地清除悬浮分子污
染物(AMC)，以避免悬浮分子污染物(AMC)污染其它光罩。
本发明的另一目地在于提供一种配置于微影系统中的过滤装置，此过
滤装置其厚度与光罩相同，因此，并不会影响机器手臂在取出或置放光罩
的准确度，且不需重新更改微影设备其主要程序，即能使机器手臂取出适
当的光罩并进行曝光。此外，由于此过滤装置其重量也可以系跟光罩相同，
因此，并不会造成微影系统有过载的问题。
本发明的再一目地在于提供一种配置于对象储存装置中的过滤装置，
此对象储存装置可以用来储存圆片或光罩或其它对象，由于过滤装置与圆片或光罩或其它对象是相邻排列于对象储存装置内的支撑架，因此能避免
悬浮分子污染物(AMC)或其它因子污染圆片或光罩。
为实现上述目的，本发明首先提供一种过滤装置，是由一底座、 一上盖及一化学吸附层所组成，其中底座配置有复数个通孔且在底座的内侧周边区域有阶梯状平台用以支撑配置有复数个通孔的上盖，而在底座与上盖形成的空间中，容置有化学吸附层。
此外，由于此过滤装置的底座及上盖可以是由金属、不锈钢或铝合金所制成，因此具有较佳的洁净度。
图1是本发明的一过滤装置的剖面图2是本发明的一过滤装置其底座及上盖的示意图3是本发明的另一过滤装置其底座及上盖的示意图4是本发明的一对象储存装置或光罩储存装置的示意图5是本发明的另一对象储存装置或光罩储存装置的示意图；及
图6是本发明的一微影系统的示意图。
附图中主要组件符号说明
10 底座
11 通孔
12 阶梯状平台
13 锁固平台14支撑肋
20上盖
21通孔
22内部空间
30化学吸附层
100过滤装置
101物件
101，光罩
200对象储存装置
200，光罩储存装置
201壳体
202容置空间
203支撑物
300微影系统
301光源装置
302光罩取放装置
303光罩承载台
304基板承载台
305透镜组
具体实施例方式
为能对本发明所运用的技术内容、发明目的及其达成的功效有更完整且清楚的了解，以下结合附图作详细说明。
首先，请参阅图l所示，为本发明的一种过滤装置的剖面图。此过滤
装置100包含有一底座10、 一上盖20及一化学吸附层30，其中，如图2所示，底座10配置有复数个通孔11且在底座10的内侧周边区域有一阶梯状平台12以支撑一配置复数个通孔21的上盖20，以使底座10与上盖20组合的后形成一内部空间22，并且在此内部空间22中容置一化学吸附层30。
上述底座10及上盖20可以由金属材质所形成，例如不锈钢材质或
7铝合金材质；使用不锈钢材质或铝合金材质除了便于清洗外，由于悬浮分
子污染物(AMC)较不易附着，因此具有较佳的洁净度。而在底座10及上 盖20的复数个通孔11, 21彼此是可互相对应的；因此，此设计可让空气 较容易流通，以引导空气中的悬浮分子污染物(AMC)经由该复数个通孔11, 21而吸附到化学吸附层30。而此化学吸附层30可以由化学吸附剂所形成， 特别是一种活性碳。
此外，在底座10内侧的阶梯状平台12靠进四个角落的地方，阶梯状 平台12可以更往内延伸，以形成四个锁固平台13。此复数个锁固平台13 可容许复数个锁固件(未显示于图中)将上盖20锁固到底座10，以增进 其稳定性。而此锁固件可以是镙丝或快拆的锁固件，以便能快速地分离上 盖20与底座10，使化学吸附层30的更换更为容易。
而上述过滤装置100于外型上可呈一矩形立体结构，其两边的宽度以 71~152.4mm为佳，厚度则以3.35-11.85 mm为佳。此外，在一较佳的实 施例中，过滤装置100的重量可以依所使用的材质而介于150~600克(g) 之间。然而，需强调的是，前述过滤装置100其外型及尺寸仅为本发明的 一较佳实施例，并不应用来限制本发明的可实施范围。
其次，请参阅图3所示，为本发明的另一种过滤装置其底座及上盖。 此底座10及上盖20与上述实施例相同，是由金属材质所形成且在底座10 与上盖20组合的后所形成的内部空间22中容置一化学吸附层30。不同的 是，在此底座20的内侧中段配置有二个向内延伸且互相垂直的支撑肋14， 可将底座10区分成复数个区域，其每一区域具有复数个通孔11。而配置 于底座10的上的上盖20其复数个通孔21可以相应地配置于复数个区域， 与底座的复数个通孔11互相对应。上述支撑肋14是用来支撑上盖20，以 增进过滤装置整体的稳定。此外，在支撑肋14互相交叉的地方，亦可容 许至少一锁固件(未显示于图中)，使上盖20更稳固地锁固于底座10。
其次，请参阅图4所示，为本发明的一种对象储存装置的示意图。此 对象储存装置200，包括一壳体201，此壳体201具有一容置空间202且 在壳体201的一面有一开口(未显示于图中)形成，容置空间202中配置有 复数个支撑物203，以使容置空间202分隔成复数个相同尺寸的存放空间， 因此可将至少一过滤装置IOO及至少一对象101配置于存放空间。如前所
8述，每一过滤装置100与每一对象101其尺寸相同。此外，过滤装置100
其重量也可以跟对象101相同，以不影响整个对象储存装置200的载重。 在此要强调，本实施例中的对象101可以是一种光罩，也可以是一种圆片， 本发明并不加以限制。
上述该复数个对象101存放于该对象储存装置200的该容置空间202 所分隔成的复数个相同尺寸的存放空间中，而该过滤装置100由于其尺寸 与该对象101相同，因此亦可储存于此复数个存放空间。其中，在该复数 个相同尺寸的存放空间中，该过滤装置ioo可以是存放于该复数个相同尺 寸的存放空间中的最上层或最下层，使位于该对象储存装置200的该容置 空间202中的悬浮分子污染物(AMC)可以先被过滤装置100所吸纳，以避 免污染对象101。当然，也可如图4所示，过滤装置100存放于复数个相 同尺寸的存放空间中的最上层及最下层，以达较佳的过滤效果。此外，在 一较佳的实施方式如图5所示，将过滤装置100及对象101以间隔地配置 于复数个相同尺寸的存放空间，可使每一对象101附近的悬浮分子污染物 (AMC)，皆能被过滤装置100所过滤，而能更避免悬浮分子污染物(AMC) 污染对象101。而在上述有提及，在此对象储存装置200的壳体201有一 开口，此开口是提供该对象101及该过滤装置100的加载或载出。
当然，如图4及图5所示，本发明的对象储存装置200亦可以是一光 罩储存装置200'，用以储存复数个光罩101'。特别要强调，此过滤装置
ioo与光罩ior其尺寸是相同的，因此可以存放于光罩储存装置200，其复 数个相同尺寸的存放空间。而过滤装置ioo及光罩ior在光罩储存装置
200'中的排列方式，就如同前述对象储存装置200的各种方式一样，因此， 过滤装置IOO可以有效地过滤光罩IOI'附近的悬浮分子污染物(AMC)，避 免悬浮分子污染物(AMC)污染光罩ior。
由于此过滤装置100与光罩101'的尺寸相同，所以可以放置在光罩储 存装置200'中的任何储位，此设计的优点是可因应想要去除悬浮分子污染 物(AMC)的位置而将过滤装置100调整于任意的其中一储位。此外，过滤 装置IOO也可以跟光罩101'的重量相同，因此，并不会造成光罩储存装置 200'有过载的问题。 '
接着，请参阅图6所示，为本发明的一种微影系统的示意图。此微影系统300至少包括一光源装置301以提供一光源， 一光罩取放装置302配 置有复数个光罩101'， 一光罩承载台303配置有第一固定器用以固定从光 罩取放装置302中取出的光罩； 一基板承载台304配置有第二固定器用以 固定一基板，很明显地，此基板可以是一片圆片或是其它需要被曝光的材 料，例如 一玻璃基板； 一透镜组305是将光源装置301所提供的光源聚 焦并使光罩承载台303上的光罩其接受照射部分转移至基板的区域目标部 分。而在上述的光罩取放装置302具有一壳体，此壳体具有一容置空间且 在该壳体的一面有一开口(未显示于图中)形成，此幵口是提供光罩ior及 过滤装置100的加载或载出。而容置空间配置有复数个支撑物，可将容置 空间分隔成复数个相同尺寸的存放空间，以将至少一过滤装置100及复数
个光罩ior配置于存放空间。再次要特别强调上述每一过滤装置ioo与每 一光罩ior其尺寸相同。而过滤装置ioo已于先前段落中提及，是由一底
座IO、 一上盖20及一化学吸附层30所组成。上盖20可以进一步以锁固 件与底座10固定并形成一内部空间22，而化学吸附层30则容置于此内部 空间22。此化学吸附层30可以由化学吸附剂所形成，特别是一种活性碳。 而底座10及上盖20是由金属材质所形成，以不锈钢或铝合金材质尤佳， 以提高过滤装置100的洁净度。很明显地，由于过滤装置100与光罩101， 其尺寸相同，因此当微影系统300要取放光罩时，不会因为过滤装置IOO 的尺寸不同而造成取放错误。此外，过滤装置IOO其重量也可以系跟光罩
ior相同，以不影响整个微影系统3oo的载重，造成过载。
过滤装置100及光罩101'，其在微影系统300的光罩取放装置302内 的排列方式，就如同前述的光罩储存装置200'—样。过滤装置100可以存 放于复数个相同尺寸的存放空间中的任何位置；当然，也可以存放在最上 层及最下层；而在一较佳的实施方式，是将过滤装置100及光罩ior以
间隔地配置于复数个相同尺寸的存放空间，如此能更有效地避免悬浮分子
污染物(AMC)污染光罩ior及其内部的光罩。
虽然本发明以前述的较佳实施例描述如上，然其并非用以限定本发 明，本领域技术人员在不脱离本发明的精神和范围内，当可作些许的更动 与润饰，因此本发明的保护范围应以申请的权利要求范围所界定的内容为 准。
权利要求
1、一种过滤装置，包含有一底座，其上配置复数个通孔并于该底座的内侧周边区域形成阶梯状平台用以支撑一配置复数个通孔的上盖，以使该底座与该上盖组合的后形成一内部空间，其特征在于该底座与该上盖是由金属所形成且于该底座与该上盖组合的后所形成的该内部空间中容置一化学吸附层。
2、 如权利要求l所述的过滤装置，其中，该化学吸附层为一活性碳。
3、 如权利要求1所述的过滤装置，其中，该底座及该上盖为一不锈 钢材质。
4、 如权利要求1所述的过滤装置，其中，该底座及该上盖为一铝合 金材质。
5、 如权利要求1所述的过滤装置，其中，该底座及该上盖的复数个 通孔为互相对应。
6、 如权利要求l所述的过滤装置，其中，该过滤装置为一矩形结构。
7、 如权利要求6所述的过滤装置，其中，该过滤装置的尺寸为 7卜152.4mm x 71 152.4mm。
8、 如权利要求1所述的过滤装置，其中，该过滤装置的厚度为 3.35~11.85mm。
9、 如权利要求1所述的过滤装置，其，该过滤装置的重量为 150~600g。
10、 一种配置有过滤装置的光罩储存装置，包括一壳体，该壳体具有 一容置空间并于该壳体的一面形成开口，该容置空间中配置有复数个支撑 物，将该容置空间形成复数个相同尺寸的存放空间，以将至少一过滤装置及至少一光罩配置于该存放空间，其特征在于 每一该过滤装置及每一该光罩的尺寸相同。
11、 如权利要求10所述的光罩储存装置，其中，该过滤装置包含 一底座，其上配置复数个通孔并于该底座的内侧周边区域形成阶梯状平台 用以支撑一配置复数个通孔的上盖，以使该底座与该上盖组合后形成一内 部空间，其中该内部空间中配置一化学吸附层。其中，该化学吸附层为一其中，该底座及该上盖为其中，该底座及该上盖为其中，该底座及该上盖为其中，该底座及该上盖的其中该过滤装置为矩形结其中，该过滤装置位于该其中，该过滤装置及该光
12、 如权利要求11所述的光罩储存装置，活性碳。
13、 如权利要求11所述的光罩储存装置，一金属材质。
14、 如权利要求11所述的光罩储存装置，一不锈钢材质。
15、 如权利要求11所述的光罩储存装置，一铝合金材质。
16、 如权利要求11所述的光罩储存装置，复数个通孔为互相对应。
17、 如权利要求10所述的光罩储存装置，构。
18、 如权利要求10所述的光罩储存装置，复数个相同尺寸的存放空间的任何位置。
19、 如权利要求10所述的光罩储存装置，罩是间隔地配置于该复数个相同尺寸的存放空间。
20、 一种配置有过滤装置的微影系统，至少包括一光源装置以提供一光源， 一光罩取放装置配置有复数个光罩， 一光罩承载台配置有一第一固定器用以固定一光罩， 一基板承载台配置有一第二固定器用以固定一基板， 一透镜组将该光源装置所提供的光源聚焦并使该光罩承载台上的该光罩的一接受照射部分转移至该基板的一目标部分，其特征在于-该光罩取放装置中至少配置有一过滤装置且该过滤装置与该光罩的尺寸相同。
21、 如权利要求20所述的微影系统，其中，该过滤装置包含 一底座，其上配置复数个通孔并于该底座的内侧周边区域形成阶梯状平台用以支撑一配置复数个通孔的上盖，以使该底座与该上盖组合后形成一内部空间，其中该内部空间中容置一化学吸附层。
22、 如权利要求21所述的微影系统，其中，该化学吸附层是由化学吸附剂所形成。
23、 如权利要求21所述的微影系统，其中，该化学吸附层为一活性碳。
24、 如权利要求21所述的微影系统，其中，该底座及该上盖为一金属材质。
25、 如权利要求21所述的微影系统，其中，该底座及该上盖为一不锈钢材质。
26、 如权利要求21所述的微影系统，其中，该底座及该上盖为一铝合金材质。
27、 如权利要求21所述的微影系统，其中，该底座及该上盖的复数个通孔为互相对应。
28、 如权利要求20所述的微影系统，其中，该过滤装置为矩形结构。
29、 如权利要求20所述的微影系统，其中，该光罩取放装置具有一壳体，该壳体具有一容置空间并于该壳体的一面形成开口，该容置空间中配置有复数个支撑物，将该容置空间形成复数个相同尺寸的存放空间，以将至少一过滤装置及至少一光罩配置于该存放空间。
30、 如权利要求29所述的微影系统，其中，该过滤装置位于该复数个相同尺寸的存放空间的任何位置。
31、 如权利要求29所述的微影系统，其中，该过滤装置及该光罩是间隔地配置于该复数个相同尺寸的存放空间。
全文摘要
一种配置于微影系统的光罩取放装置内的过滤装置，微影系统至少包括光源装置用以提供光源；光罩取放装置配置有复数个光罩；光罩承载台配置有固定器用以固定光罩；基板承载台配置有固定器用以固定基板；透镜组将光源装置的光源聚焦并使光罩承载台上的光罩接受照射部分转移至基板。而过滤装置由底座、上盖及化学吸附层所形成，过滤装置与微影系统内的光罩具相同尺寸，且与光罩相邻排列于光罩取放装置内支撑架上，因此，过滤装置可有效地过滤该光罩周围的悬浮分子污染物，以避免该悬浮分子污染物形成于光罩表面。
文档编号G03F1/00GK101683579SQ20081016104
公开日2010年3月31日 申请日期2008年9月24日 优先权日2008年9月24日
发明者刘维虔, 刘裕彰, 周昱良 申请人:家登精密工业股份有限公司